1) PAG
光产酸剂
1.
The properties of a new photoacid generator(PAG) for 193 nm photoresist;
一种新型的193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的性质分析
2.
We also have synthesized diphenyliodonium trimethylsilyl triflate as photo-acid-generator(PAG) in the lab.
本文通过沉淀聚合合成了聚(甲基丙烯酸-co-甲基丙烯酸甲酯-co-甲基丙烯酸叔丁酯-co-甲基丙烯酸异冰片酯)四元共聚物,合成了光产酸剂二苯碘三氟甲基磺酸盐,在净化室中以聚(甲基丙烯酸-co-甲基丙烯酸甲酯-co-甲基丙烯酸叔丁酯-co-甲基丙烯酸异冰片酯)四元共聚物为主体树脂,以二苯碘三氟甲基磺酸盐为光产酸剂,选择合适的溶剂进行配方优化实验,最终得到实验范围内的优化光刻胶,并进行系统的光刻试验。
2) photoacid generator
光产酸剂
1.
Thus formed compound can be quickly decomposed at the presence of strong acid generated by photoacid generator(PAG) above 100 ℃ and become easily soluble in dilute aqueous base.
这样形成的产物在光产酸剂产生的强酸催化下,在温度高于100℃时,可以迅速分解,从而变成稀碱水易溶。
2.
This paper introduces the latest development of the photoresist and the photoacid generator (PAG) used in the chemical amplified photoresist -the preparation of the sulfonium salts.
介绍了国内外光致抗蚀剂的研究进展、化学增幅光致抗蚀剂用光产酸剂———硫鎓盐的主要合成方法,同时介绍了193nm光致抗蚀剂所使用的光产酸剂及其合成方法,指出合成193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的重要性。
3) photo-acid generator
光致产酸剂
1.
This paper describes the evolution and status of the 193 nm photoresists in aspects of matrix resins,photo-acid generator,dissolution inhibitor,base additives,existing problems and ways of solutions.
从193nm光刻胶的各个组分,如:主体树脂、光致产酸剂、溶解抑制剂、碱性添加剂以及存在的问题和解决途径等多个方面综述了193nm深紫外光刻胶的发展与现状。
2.
This paper discuss the preparation technology of 193 nm photoresist from the structure design of matrix polymer,the synthetic technology of monomer and of matrix polymer, the evaluation of photo-acid generator and prescription research.
从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方。
3.
This paper gives an overview of development history of immersion lithography,the challenges being faced and the requirements of the immersion photoresist;the recent progress of the main resin,the photo-acid generator and the additives are reviewed.
本文概述了浸没式光刻技术的发展历程和浸没式光刻胶遇到的挑战及要求;对浸没式光刻胶主体树脂、光致产酸剂及添加剂的研究进展进行了综述;最后对浸没式光刻胶的研究发展方向作了进一步的探讨及初步预测。
4) photobase generator
光产碱剂
1.
Twelve quaternary ammonium salt photobase generators with arone were synthesized by three-step method.
以苯乙酮、对甲氧基苯乙酮、萘乙酮、4-甲基二苯甲酮生色团为母体、杂环叔胺三亚乙基二胺、吡啶、3-甲基吡啶和四苯硼盐为原料,合成了12个四苯硼季铵盐光产碱剂,产物经熔点测量、元素分析、FT-IR、1H NMR表征,考察了其吸收光谱等特性。
2.
Six Quaternary Ammonium tetraphenyl borates salt photobase generators were synthesized with the use of(p-methoxy) phenacylmethylene or 2-naphthoymethylene as chromophore,and triethylene diamine,(pyridine) or 3-methyl pyridine as tertiary amine.
以对甲氧基苯乙酮、萘乙酮生色团为母体、杂环叔胺三亚乙基二胺,吡啶,3-甲基吡啶和四苯硼盐为原料,合成了6种四苯硼季铵盐光产碱剂。
5) photoacid generator
产酸剂
1.
So it is a good potential photoacid generator(PAG) in the deep-UV 248 nm photoresist system.
以邻苯二甲酸酐、盐酸羟胺和对甲苯磺酰氯为起始原料,合成了非离子型光致产酸剂——N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯,对其进行了红外、核磁共振和紫外表征,测定了其化学结构、溶解性和紫外吸收等性能。
2.
The synthesis of triazine derivatives as photoacid generator were introduced.
合成了一系列的三嗪类产酸剂,利用IR,EA等分析手段确定了他们的结构,初步测定了所得产品在各类溶剂中的溶解性,并利用UV测定了其具有最大吸收的紫外波长,从而初定其产酸性能。
3.
Three kinds of non-ionic photoacid generators (PAG): Phthalimidotosylate, N-hydroxy-5-norbornene-endo-2,3-dicarboximide methylic sulfonate and N-hydroxymal -eimide adduct of furan methylic sulfonate were synthesized from hydroxylamine hydrochloride, anhydride and p-toluenesulfonyl chloride as raw chemicals.
本文以盐酸羟胺、酸酐及对甲苯磺酰氯为原料合成了三种用于深紫外光刻胶的非离子型产酸剂N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯、N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯和N-羟基-3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯,优化了中间产物的合成条件,对合成的三种产酸剂的结构进行了FT-IR、1HNMR表征,并对其进行了溶解性、热稳定性、溶液和乙二醇固体膜层中的紫外吸收性及光解特性测试,实验结果表明,N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯和N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯有良好的溶解性、热稳定性及紫外吸收性和光解特性,且N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯较N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯性能好,两种产酸剂的使用温度均可达150℃。
6) photoacid generator
光生酸剂
1.
Design and Synthesis of Photoacid Generator with High Efficiency and Research on Performance;
高效光生酸剂的设计合成与性能研究
2.
Synthesis and Indication of Photoacid Generator Derived From Triphenylamine;
一种基于三苯胺类光生酸剂的制备与表征
3.
Design, Synthesis and Performance of Photoacid Generator with High Efficiency;
高效光生酸剂的设计合成及性能研究
补充资料：萘磺酸与甲醛、尿素和铵盐的反产应物
CAS：90459-07-7
中文名称：萘磺酸与甲醛、尿素和铵盐的反产应物
英文名称：Naphthalenesulfonic acid, reaction products with formaldehyde and urea, ammonium salts
中文名称：萘磺酸与甲醛、尿素和铵盐的反产应物
英文名称：Naphthalenesulfonic acid, reaction products with formaldehyde and urea, ammonium salts
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条