1) DC glow discharge
直流辉光放电
1.
On the improvement of hydrophilicity of inner surface of PVC tube by DC glow discharge plasma
利用直流辉光放电等离子体改善聚氯乙烯细管内表面亲水性的研究
2.
Polycrystalline diamond films are etched at different etching parameters in oxygen plasma produced by DC glow discharge.
在直流辉光放电等离子体装置上,利用不同直流功率和工作气压下产生的氧等离子体对CVD金刚石厚膜的表面进行了刻蚀。
3.
Measurements of rotational temperature as low as several hundred Kelvin have been achieved using optical emission spectroscopy (OES) in nitrogen DC glow discharge.
本文报道了氮气气压分别为 10和 2 0Pa时 ,对直流辉光放电的发射光谱进行测量和分析的结果。
2) Direct current glow discharge
直流辉光放电
1.
This dissertation consists of two different parts,Part one: Plasma degradation of dye by a nonpulsed direct current glow discharge in an Aqueous Solution;Part two : the synthesis of terephthalic.
本论文的研究分为两部分,第一部分是非脉冲直流辉光放电等离子体降解水中染料的研究,第二部分是对苯二甲酸的新合成路线研究。
2.
With the development of the micro-electronic fabrication, the technology of the direct current glow discharge is applied in much fields.
正是由于直流辉光放电等离子体源的广泛应用,对其需求与日剧增,因此对其放电生成等离子体源特性的研究有着非常重要的意义。
3.
In contrast to the investigations of the steady-state of direct current glow plasma, the characteristics of ionization progress in direct current glow discharge is less studied.
了解直流辉光放电的电离过程,能够更深入的了解辉光放电过程中粒子的输运特性,正确的模拟这一电离过程将对以后的实际应用起理论指导作用。
3) C V D
直流辉光放电(CVD)
4) nitrogen dc glow discharge
氮直流辉光放电
5) DC atmospheric glow discharge
大气压直流辉光放电
6) HeGDC
氦直流辉光放电清洗
1.
By studying the characteristics of discharge and the removing efficiency of HeGDC in the HL-1M Tokamak, we found that the electric field near the symmetric position of the anode section was very weak, and the depth of the cathodic potential fall was much larger than the free mean path of He ions,which lde to a serious reduction of removing efficiency.
通过对ＨＬ－１Ｍ的氦直流辉光放电清洗（ＨｅＧＤＣ）的放电特点和清除效率的研究，发现环形真空室的对称性导致与阳极截面相对称的区域的场强很弱，使其阴极位降区的厚度远大于氦离子的平均自由程，严重影响辉光清除效率。
补充资料：辉光放电处理
分子式：
CAS号：
性质：对难粘的聚烯烃类塑料表面的处理方法。在基材上或基材下的金属支承物上施加300～1000V的电压，使101Pa的真空室内的气体分子激发活化并吸向电极至基材的表面产生物理化学反应，使基材表面活化，增加黏结力。这种处理方法比电晕放电处理节省能量。
CAS号：
性质：对难粘的聚烯烃类塑料表面的处理方法。在基材上或基材下的金属支承物上施加300～1000V的电压，使101Pa的真空室内的气体分子激发活化并吸向电极至基材的表面产生物理化学反应，使基材表面活化，增加黏结力。这种处理方法比电晕放电处理节省能量。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条