1) PVD
物理气相沉积
1.
PVD (Ti,Al) N Coating and Its Tooling Quality;
物理气相沉积(Ti,Al)N涂层刀具的切削性能
2.
Progress in Research on Corrosion Resistance of PVD Hard Coating;
物理气相沉积技术制备的硬质涂层耐腐蚀的研究进展
3.
NEW PVD COATING & DIFFUSING TECHNIQUE;
物理气相沉积镀渗新工艺
2) physical vapor deposition
物理气相沉积
1.
The physical vapor deposition always plays an important role in the surface treatment technology.
物理气相沉积(PVD)在表面处理技术中占有举足轻重的地位。
2.
Being seldom used in preparing the silicon coating,the technology of electronic beam physical vapor deposition(EB-PVD)is introduced as a emphases,and the principium and influential factors to per- formances of silicon coating are the main part of the paper.
介绍了两大类硅膜的制备方法:物理方法与化学方法,其中包括物理方法中的电子束物理气相沉积技术(EB-PVD),目前该技术在国内应用比较少,所以对其工作原理、薄膜质量的影响因素等作了重点介绍。
3.
The new research progress for physical vapor deposition in positive film material in recent years is summarized.
综述了近年来国内外物理气相沉积在薄膜锂离子电池正极薄膜方面的研究新进展,着重介绍了射频磁控溅射、脉冲激光沉积、电子束沉积等制备技术的工作原理、特点及发展,并对这些制备技术在锂离子电池正极薄膜制备中的应用进行了分析、比较和评价。
3) physical vapour deposition
物理气相沉积
1.
In this paper,the principles,characteristics,application results and trends of development of physical vapour deposition are briefly described.
扼要地介绍了物理气相沉积(PVD)的基本原理、特性、应用效果及发展趋势。
2.
A new nonlinear optical material urea L_malic acid film (ULMA) was successfully prepared by physical vapour deposition (PVD) at appropriate heating temperature.
通过控制加热温度,采用物理气相沉积(PVD)技术制备了新型有机非线性光学材料L-苹果酸脲(ULMA)的晶体薄膜,该薄膜保持了晶体良好的非线性光学性质。
4) physical vapor deposition
物理气相沉积法
1.
Employing the physical vapor deposition method,Bi2O3 powder was heated to 1050 ℃ at normal pressure in a horizontal tube furnace with the protection of argon gas and oxygen,and then cooled and deposited naturally.
利用物理气相沉积法,在氩气和氧气保护下将氧化铋粉末在水平管式炉中常压加热至1050℃,然后降温沉积,在硅衬底上得到了大量具有规则矩形外形的二维纳米结构——片状氧化铋。
5) physical vapour deposition(PVD)
物理气相沉积(PVD)
6) EB-PVD
电子束物理气相沉积
1.
The effect of high temperature rapid annealing on preparation of high silicon electrical steel by EB-PVD;
高温快速退火对电子束物理气相沉积制备高硅硅钢片的影响
2.
Oxidation Behavior at 1000℃ for Nanocrystalline Ni-20Cr-0.6Al Alloy Deposited by EB-PVD;
电子束物理气相沉积制备纳米晶Ni-20Cr-0.6Al合金在1000℃的氧化行为
3.
Research on Ultrathin High Temperature Structure Materials Achieved by EB-PVD;
电子束物理气相沉积工艺制备超薄高温结构材料的研究
补充资料：物理气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：在真空下，将金属、合金或非金属及化合物等用物理方法气化为原子或分子或离化为离子，然后直接沉积在基体表面形成薄膜的技术。该工艺在真空下进行，所得膜的物理化学性能好，纯度高、致密、膜厚均匀，光洁度高，膜厚度易控制，镀膜材料和基体材料范围广，可制纯金属膜，成分复杂的合金膜、化合物膜，生产环境清洁、无废液、无公害污染。物理气相沉积方法，目前主要有真空蒸镀、离子溅射、离子镀(将上述两者相结合)。该技术已在工业上广泛应用；用于制备抗氧化、抗腐蚀、耐磨、润滑、装饰等结构镀层，也可制备光学、磁性、导电、压电和超导等特殊性能的功能膜。
CAS号：
性质：在真空下，将金属、合金或非金属及化合物等用物理方法气化为原子或分子或离化为离子，然后直接沉积在基体表面形成薄膜的技术。该工艺在真空下进行，所得膜的物理化学性能好，纯度高、致密、膜厚均匀，光洁度高，膜厚度易控制，镀膜材料和基体材料范围广，可制纯金属膜，成分复杂的合金膜、化合物膜，生产环境清洁、无废液、无公害污染。物理气相沉积方法，目前主要有真空蒸镀、离子溅射、离子镀(将上述两者相结合)。该技术已在工业上广泛应用；用于制备抗氧化、抗腐蚀、耐磨、润滑、装饰等结构镀层，也可制备光学、磁性、导电、压电和超导等特殊性能的功能膜。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条