1) thickness uniformity
厚度均匀性
1.
The results of film thickness uniformity showed that this system is capable of depositing uniform films larger than 150 mm in diameter.
本文采用非平衡磁控溅射技术(UBMS)制备了无氢类金刚石膜,并研究了其厚度均匀性。
2.
The effect of deposition parameters such as deposition temperature, pressure and flow rate of hydrogen sulphide, zinc vapor and argon gas on the thickness uniformity of ZnS was studied.
分析了ＺｎＳ的沉积过程机理，研究了沉积参数如沉积温度、沉积区压力和硫化氢、锌蒸汽、载气氩气流量对ＺｎＳ厚度均匀性的影响规律，提出了改善ＺｎＳ厚度均匀性、抑制沉积表面球状物生长的途径。
3.
The thickness uniformity of Al film in coaxial and side-axial deposition modes is also studied comparatively.
为了给脉冲激光沉积(PLD)法沉积大面积均匀薄膜的应用提供相关的理论依据,以纯铝块作为靶材,采用PLD法在同轴和旁轴两种模式下对比研究了A l薄膜的厚度均匀性。
2) Uniformity of layer thickness
厚度均匀性
1.
The uniformity of layer thickness of DWDM filters is a key point.
用离子束溅射和离子辅助淀积技术制备DWDM滤光片的关键问题是必须获得优良的膜层厚度均匀性。
3) uniformity of thickness distribution
厚度分布均匀性
4) film thickness unitorm
膜层厚度均匀性
5) thin film thickness uniformity
薄膜厚度均匀性
1.
Magnetron sputtering coating is one of the indispensable technologies of modern industry,which is widely applied in electronics,construction,automobiles and other industries,especially the large area deposition,and more and more attention is paid to thin film thickness uniformity,deposition ratio,utilization ratio of target material and other problems in coating industry.
镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性,沉积速率,靶材利甩率等方面的问题是实际生产中十分关注的。
补充资料：放射性厚度计
分子式：
CAS号：
性质：利用射线(β，γ或X射线)与物质相互作用时发生的射线的吸收和散射，而测量物质厚度的仪表。可分为穿透式和反散射式两种。前者利用射线穿过物质时由于被吸收而辐射强度减弱的原理，后者利用物质厚度增加而增加反散射强度的原理而设计的。主要用于连续测量生产流程中的钢板、塑料、纸张等的厚度。
CAS号：
性质：利用射线(β，γ或X射线)与物质相互作用时发生的射线的吸收和散射，而测量物质厚度的仪表。可分为穿透式和反散射式两种。前者利用射线穿过物质时由于被吸收而辐射强度减弱的原理，后者利用物质厚度增加而增加反散射强度的原理而设计的。主要用于连续测量生产流程中的钢板、塑料、纸张等的厚度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条