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1)  one-step in situ chemical reduction growth
化学原位一步还原法
2)  in-situ chemical reduction method
原位化学还原法
1.
Using an in-situ chemical reduction method,silver nanoparticles(NPs)were directly deposited onto the surfaces of polystyrene(PS)submicron spheres,without the activation by additional "seed metals",to fabricate PS-Ag composite particles.
采用原位化学还原法,将银纳米颗粒直接沉积到没有进行任何活化处理的聚苯乙烯(Polysty-rene,PS)亚微米球的表面。
3)  one-step reduction
一步还原法
1.
The (W-Ti-Ta)C powder through solid-solid reaction among W powder, TiO_2, Ta_2O_5, and carbide has been prepared successfully by one-step reduction.
本文采用一步还原法制备了(W-Ti-Ta-Nb)C复合碳化物,并对其合成过程中的影响因素和固溶机理进行了探讨。
4)  in-situ and single-stage
原位一步法
1.
Development of polyimide nano-composite films with silvered surface by in-situ and single-stage self-metallizing techniques;
原位一步法制备表面银化的聚酰亚胺纳米复合薄膜
5)  one step DR Process
"一步法"直接还原
6)  chemical reduction method
化学还原法
1.
Mono-dispersive nickel nanoparticles were prepared by chemical reduction method at the mixture media of distilled water and absolute alcohol using hydrazimum hydroxide as reductant,NiCl2·6H2O as starting material.
采用水合肼作为还原剂,氯化镍作为原料,在水和乙醇混合介质中,通过化学还原法制备了单分散性的金属镍纳米粉。
2.
A series of nano-sized nickel catalysts were prepared by an improved chemical reduction method.
采用改进的化学还原法制备了一系列纳米镍粉催化剂,在对硝基苯酚催化加氢反应中考察了制备条件对纳米镍粉催化活性的影响,并与纳米镍粉的XRD表征结果相关联,期望得到纳米镍粉的最佳制备条件。
3.
The ultrafine flake copper particles with diameter from 1 μm to 10μm were prepared by using chemical reduction method with ascorbic acid as reducing agent.
采用液相化学还原法,以抗坏血酸为还原剂,NH3·H2O、乙二胺或EDTA为络合剂,制备了1~10μm表面光滑的片状超细铜粉。
补充资料:电化学原位红外光谱法
分子式:
CAS号:

性质:红外光谱法检测灵敏度高,具有“指纹”性的谱段,对于确认电化学反应过程的中间体以及了解吸附物种的状态特别有利。但是由于信号微弱,信噪比低,特别是电化学中常用的水溶液对红外线吸收强烈,使用困难较多。直至20世纪80年代,陆续采用了一些新技术,如光学电解池的聚乙烯红外窗及1~100μm薄层电解液,红外光谱的傅里叶变换技术、偏振调制技术和扫描干涉仪等,发展了如SNIFTIRS,EMIRS,IRRAS等方法,在电化学动力学、电催化、化学电源等许多方面已获得有意义的成果。

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