1) substrate-chemically etching method
基体化学腐蚀法
1.
The effect of laser-discrete-quenched steel substrate on micro-crack morphologies of initial electroplated chromium layer was investigated with high resolution scanning electron microscope (HRSEM) by substrate-chemically etching method.
通过基体化学腐蚀法去掉钢基体,利用高分辨扫描电镜(HRSEM)就钢基体激光离散淬火对初始镀铬层界面微裂纹形貌影响进行研究。
2) chemically etching substrate
化学腐蚀基体
1.
In order to measure mechanical properties of interfacial soft double chromium layer,the method of chemically etching substrate is presented.
为了测量双层铬的界面软铬层力学性质,提出了化学腐蚀基体法,通过溶解掉基体制备没有基体支撑的自由铬层,将在横截面内线状显示的界面转化为界面表面(铬层与基体相连接的面),避免了横截面不能显示界面表面的缺点。
3) chemical etching method
化学腐蚀法
1.
The twins in NYAB and NGAB crystals were investigated by synchrotron radiation topography and chemical etching method.
采用同步辐射形貌术结合化学腐蚀法，系统研究了ＮＹＡＢ和ＮＧＡＢ晶体中的孪晶结构。
4) chemical etching
化学腐蚀法
1.
The principle of fabrication of near-field optical fiber probe by chemical etching is based on the dynamic characteristics of etching meniscus associated with alteration of the fiber diameter.
纳米光纤探针是扫描近场光学显微镜的常用关键器件,化学腐蚀法制备近场光学光纤探针是基于腐蚀液弯液面的高度随光纤芯径的动态变化过程。
补充资料：基体隔离史坡勒斯基荧光法
分子式：
CAS号：
性质： 将蒸气相基体隔离荧光法与冷冻溶液史坡勒斯基法相结合的一种低温荧光法。用基体隔离法将样品分子稀释分散在正构烷烃溶剂的蒸气中，再沉积在11～15K低温表面上，测定前加热到溶剂的特征温度数分钟进行“退火”，使其转变成类晶型后，再降低温度到11～15K，然后进行荧光测定。此法兼具有冷冻溶液史坡勒斯基法高分辨率和蒸气相基体隔离法精密度高、工作曲线线性范围宽的特点。
CAS号：
性质： 将蒸气相基体隔离荧光法与冷冻溶液史坡勒斯基法相结合的一种低温荧光法。用基体隔离法将样品分子稀释分散在正构烷烃溶剂的蒸气中，再沉积在11～15K低温表面上，测定前加热到溶剂的特征温度数分钟进行“退火”，使其转变成类晶型后，再降低温度到11～15K，然后进行荧光测定。此法兼具有冷冻溶液史坡勒斯基法高分辨率和蒸气相基体隔离法精密度高、工作曲线线性范围宽的特点。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条