1) plasma surface infiltration
等离子表面共渗
2) plasma surface carburization
等离子表面渗碳
3) surface plasma resonance
表面等离子共振
1.
Based on surface plasma resonance (SPR) sensor, the relationships between reflected light power and incidence light angle for Al film, Ag film and Au film were studied at the fix wavelength 632.
利用自制的棱镜型表面等离子共振(SPR)传感器,在固定入射光波长632。
2.
It is shown from the calculation results that with the decreasing of the thickness of the ring walls(d/a from 1 to 0),the wavelength of gold nano-ring s surface plasma resonance gets red shift from about 684 nm gradual.
当金纳米环壁厚度d逐渐减小时(d/a由1→0,其中a为环半径),其表面等离子共振吸收频率由684 nm逐渐红移,且速率逐渐增大,而且其等离子共振频率处三阶极化率增强因子F(3)(ωR)随着环壁厚度的减小先增大,而后逐渐减小(d/a≈0。
4) surface plasmon resonance
表面等离子共振
1.
Research on the optimum thickness of metallic thin film utilized to excite surface plasmon resonance;
激励表面等离子共振的金属薄膜最佳厚度分析
2.
Automatic concentration detection system based on surface plasmon resonance
基于表面等离子共振的全自动浓度检测系统
3.
Application,construction and principle of a hydrogen sensor based on surface plasmon resonance using tapered fiber are studied.
研究了拉锥光纤表面等离子共振氢敏感机理、构建及应用。
5) surface plasmon resonance(SPR)
表面等离子共振
1.
A novel surface plasmon resonance(SPR) H_2S gas sensitive optical sensor structure coated a combined Ag-SnO_2 film is proposed.
提出一种新型的Ag-SnO2复合膜H2S光化学表面等离子共振(SPR)气体传感器结构。
2.
A corresponding mathematic model based on surface plasmon resonance(SPR) hydrogen sensors is established.
提出了一种新颖的钯(Pd)/金(Au)复合膜表面等离子共振氢敏结构,与单一Pd膜氢敏传感器相比,具有可靠性好、灵敏度高和响应度大等特点。
3.
A novel surface plasmon resonance(SPR)trimethylamine(TAM)gas sensor structure coated a combined Ag and TiO2 film is proposed.
提出一种新型的Ag/TiO2复合膜三甲胺(TMA)气敏光化学表面等离子共振(SPR)传感器结构。
6) surface plasmon resonance (SPR)
表面等离子共振
1.
Under excitation of electromagnetic, phenomena of surface plasmon resonance (SPR) appears and affects the electromagnetic in propagation.
根据这一原理制作的表面等离子共振传感器可对化学和生物等量进行探测。
2.
A novel device measuring seawater salinity is developed, based on techniques of surface plasmon resonance (SPR) and relation between its salinity and refractive index.
基于表面等离子共振技术,根据盐溶液折射率与盐度的关系原理,实现对盐度测量。
3.
ATR devices can be significantly enhanced by Surface Plasmon Resonance (SPR) through cladding proper metal film.
聚合物光波导,采用衰减全反射技术,结合表面等离子共振增强效应,可以测定聚合物非线性系数和光学特性,实现了许多光电子功能器件。
补充资料：HF120真空离子渗碳(碳氮共渗)设备
一、设备特点：
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构（也可卧式）。
2、石墨碳棒加热，加热速度快，温度均匀，使用寿命。
3、脉冲偏压源，提供高稳定的强渗电源。
4、可实现气淬；油淬；真空退火；真空回火等多种工艺过程。
二、工艺特点：
1、渗碳温度可大幅度降低，实现渗碳温度与加热淬火温度一致，避免重复加热，节省能源，减小零件变形量。
2、不使用防渗剂，不渗的地方用铁板遮挡住即可，例：齿轮可先渗碳淬火再拉键槽。
3、对齿轮而言，渗碳优势明显，通过工艺控制可实现在节园部分渗层深齿根部分渗层略浅。
例如：对渗碳层深0.8mm以上。
真空离子渗碳：860℃~880℃保温2.5h+扩散0.5h淬火。
气体渗碳：930℃保温3h+扩散1h冷却，再加热至860℃淬火。
4、耗气量甚微，节能环保。
5、设备功率分别为：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（电阻加热功率/辉光放电功率）。
6、工艺类型 等离子体渗碳或碳氮共渗的特点之一，是无忧机械电子在渗入的初期在工件表面就很容易建立高碳浓度，加上表面碳浓度随处理时间的延长而增加，所以必须采取渗碳加扩散的工艺（尤其对渗层较深的工件）。
7、设备示意图：
8、等离子体渗碳的原理
等离子体渗碳的原理与离子渗氮相似。工件渗碳时所需的活性碳原子或离子，不仅象常规气体渗碳一样利用热分解反应，而且还利用辉光放电时在阴极（工件）位降区中工作气体的电离而获得。以渗碳介质丙烷为例，它在等离子渗碳中的反应过程如下：
辉光放电
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃
式中Cr 活性碳原子和离子
9、等离子渗碳的优点
⑴渗碳速度快
由于它是在真空中加热，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。
⑵渗层容易控制
由于工作气氛气压，放电电流密度、渗碳气体的流量及导入时间以及点燃辉光等都可以按需要预先设定并调节，因而能准确控制渗层。例如，通过调节放电电流密度值，就可以很容易控制表面碳浓度及硬化层深度。
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构（也可卧式）。
2、石墨碳棒加热，加热速度快，温度均匀，使用寿命。
3、脉冲偏压源，提供高稳定的强渗电源。
4、可实现气淬；油淬；真空退火；真空回火等多种工艺过程。
二、工艺特点：
1、渗碳温度可大幅度降低，实现渗碳温度与加热淬火温度一致，避免重复加热，节省能源，减小零件变形量。
2、不使用防渗剂，不渗的地方用铁板遮挡住即可，例：齿轮可先渗碳淬火再拉键槽。
3、对齿轮而言，渗碳优势明显，通过工艺控制可实现在节园部分渗层深齿根部分渗层略浅。
例如：对渗碳层深0.8mm以上。
真空离子渗碳：860℃~880℃保温2.5h+扩散0.5h淬火。
气体渗碳：930℃保温3h+扩散1h冷却，再加热至860℃淬火。
4、耗气量甚微，节能环保。
5、设备功率分别为：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（电阻加热功率/辉光放电功率）。
6、工艺类型 等离子体渗碳或碳氮共渗的特点之一，是无忧机械电子在渗入的初期在工件表面就很容易建立高碳浓度，加上表面碳浓度随处理时间的延长而增加，所以必须采取渗碳加扩散的工艺（尤其对渗层较深的工件）。
7、设备示意图：
8、等离子体渗碳的原理
等离子体渗碳的原理与离子渗氮相似。工件渗碳时所需的活性碳原子或离子，不仅象常规气体渗碳一样利用热分解反应，而且还利用辉光放电时在阴极（工件）位降区中工作气体的电离而获得。以渗碳介质丙烷为例，它在等离子渗碳中的反应过程如下：
辉光放电
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃
式中Cr 活性碳原子和离子
9、等离子渗碳的优点
⑴渗碳速度快
由于它是在真空中加热，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。
⑵渗层容易控制
由于工作气氛气压，放电电流密度、渗碳气体的流量及导入时间以及点燃辉光等都可以按需要预先设定并调节，因而能准确控制渗层。例如，通过调节放电电流密度值，就可以很容易控制表面碳浓度及硬化层深度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条