1) copper electro-deposition
铜电沉积
1.
By using SEM and X-ray Diffraction, the effects of magnetic flux density (MFD) and current density on the surface morphology, growth faces and preferred orientation were investigated in 0-10 T magnetic field for copper electro-deposition layer.
利用SEM和XRD研究了无磁场和2 T～10 T强磁场中电流密度和磁感应强度对铜电沉积层表面形貌及择优取向的影响。
2) copper electrolyte
铜电解液
1.
Preparation of copper arsenite from waste acid containing arsenic and its application in copper electrolyte purification;
含砷废酸制备亚砷酸铜及其在铜电解液净化中的应用
2.
Purification of Copper Electrolyte by Pulse Electrolysis;
脉冲电解铜电解液的净化
3.
The electrolyte was purified by copper arsenite to effectively remove Sb and Bi impurities in the copper electrolyte.
为有效脱除铜电解液中的Sb、Bi等杂质,采用亚砷酸铜净化电解液。
3) copper electrolysis
铜电解
1.
Improvement of clear solution downflow tube of copper electrolysis cells;
铜电解槽上清液溜管的改进
2.
Industrial control of copper electrolysis additive;
铜电解添加剂的工业监控
4) copper electrode
铜电极
1.
The photoelectrochemical behavior of copper electrode in borax buffer solutions containing imidazole(IM) and 8-hydroxyquinoline(HQ) and the synergistic effects of IM or HQ with benzotriazole(BTA) were investigated by photoelectrochemical methods.
实验表明:在电位正向扫描过程中,高浓度的IM能使铜电极的光响应从p-型转变为n-型,而HQ却不能使铜电极的光电流发生转型;在电位负向扫描过程中,HQ能使铜电极产生的阴极光电流峰值明显增大。
2.
Taken the manufacturing of the copper electrode in the battery box as example,this text explains how to use Mastercam software to resolve the problem of copper electrode efficiently in numerical control manufacturing.
分析了注塑模具制造过程中薄壁铜电极的工艺、结构特点,研究了基于Mastercam软件支持下的以控制变形为目的的数控高速加工工艺,并进行了玩具中电池盒的骨位铜电极加工设计,提出利用Mastercam软件高效地解决薄壁铜电极的数控加工方法。
3.
A new method for Chinese green tea classification is proposed based on chemometric analysis of voltammogram of copper electrode.
提出了一种基于对铜电极的循环伏安信号的主成分分析来进行绿茶分类的方法。
5) brass electroplating
黄铜电镀
6) ISA Process
ISA铜电解
1.
Progress of ISA Process Technology;
ISA铜电解技术的进展
参考词条
补充资料：电沉积层织构
分子式：
CAS号：
性质：电沉积层与基体的结晶取向关系。即在沉积层中相当数量的晶粒表现出来的某种共同取向特征，又称择优取向。在多晶沉积层中，每颗晶粒的空间方位可用它的晶轴与相对于宏观基体的参考坐标系坐标轴的夹角来表示。如果沉积层中各晶粒的三根晶轴相对于参考坐标系呈随机分布，这便是无序取向。如果各晶粒的三根晶轴中有一根与参考坐标系有固定的关系，则成为一维取向，即通常所指的织构。这根晶轴即称为择优取向轴。有时择优取向轴的数目不止一根，这就意味着沉积层中有些晶粒是按某种关系相对于基体取向的，而另一些晶粒是按另一种关系相对于基体取向的。改变镀液组成、电流密度、pH等都可能引起织构的变化。
CAS号：
性质：电沉积层与基体的结晶取向关系。即在沉积层中相当数量的晶粒表现出来的某种共同取向特征，又称择优取向。在多晶沉积层中，每颗晶粒的空间方位可用它的晶轴与相对于宏观基体的参考坐标系坐标轴的夹角来表示。如果沉积层中各晶粒的三根晶轴相对于参考坐标系呈随机分布，这便是无序取向。如果各晶粒的三根晶轴中有一根与参考坐标系有固定的关系，则成为一维取向，即通常所指的织构。这根晶轴即称为择优取向轴。有时择优取向轴的数目不止一根，这就意味着沉积层中有些晶粒是按某种关系相对于基体取向的，而另一些晶粒是按另一种关系相对于基体取向的。改变镀液组成、电流密度、pH等都可能引起织构的变化。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。