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1)  alumina film
氧化铝薄膜
1.
In order to find out internal relation between anodizing voltage and pore diameter of alumina film, (alumina) films with nano-pore structure were prepared by anodic oxidation of aluminum in 2~0_0H_3PO_4 at the anodizing voltage from 40 V to 150 V.
为了确定电解电压与氧化铝薄膜纳米孔孔径之间的内在关系,以200的磷酸为电解液,在40~150V的电解电压范围内,对铝基材实施阳极氧化制备了具有纳米孔结构氧化铝薄膜
2.
Amorphous alumina films with thickness about 50nm are fabricated by reactive sputtering in Ar and O2 mixture.
用反应溅射方法制备了非晶氧化铝薄膜;以 Al/a-Al2O3/Al电容器为载体,研究了此种电容器的电容量,随样品放置时间的衰减过程及其影响因素,结论如下:(1)同一样品,高频下测得的电容随样品放置时间而变小的趋势相对于低频值要缓慢。
2)  aluminum oxide film
氧化铝薄膜
1.
Application of Pulsed Sputtering Technology in Aluminum Oxide Films Deposition;
脉冲溅射技术在氧化铝薄膜沉积中的应用
3)  alumina-plated film
镀氧化铝薄膜
1.
Properties and processes of poly(vinyl alcohol) films,monox-plated films, alumina-plated films, films with air permeability, and shielding films with electro-magnetics developed in recent years were introduced.
介绍了国内外近年来新开发的聚乙烯醇薄膜、镀氧化硅薄膜、镀氧化铝薄膜、微波炉用电磁屏蔽薄膜及透气性薄膜等几种功能性薄膜的特性及生产技术。
4)  Al-doped ZnO
掺铝氧化锌薄膜
1.
Optical and electrical properties of Al-doped ZnO thin films;
掺铝氧化锌薄膜的光电性能
5)  porous Alumina film
多孔氧化铝薄膜
6)  anodizing alumina film
阳极氧化铝薄膜
补充资料:α-氧化铝
分子式: α-Al2O3 
CAS号:

性质:白色晶体粉末。密度4.0g/cm3。熔点2015℃。沸点2980℃。莫氏硬度8.8。不溶于水。难溶于酸。一般不被化学药品侵蚀。可由水合氧化铝经1200℃灼烧制得。硬度仅次于金刚石和金刚砂。可用于制轴承、砂轮、实验器皿等。刚玉是天然的α-Al2O3,因其中含有少量杂质而有不同颜色。人工高温烧结的氧化铝称人造刚玉,可耐1800℃,常用作高温耐火材料。高纯氧化铝与少量着色物如氧化铬(红色)或氧化铁(蓝色)混合,经高温熔融可制得人造宝石,用作钟表和精密仪器的轴承及装饰品。

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