1) carbonaceous deposit
碳沉积物
1.
The content of insoluble carbonaceous deposit and the C/H mole ratio on the catalyst surface increased with the time on stream.
随着反应时间的延长 ,催化剂表面碳沉积物的含量逐渐增多 ,不饱和度逐渐增大 ;χ Fe5C2 的含量逐渐增多 ,Fe3 O4的含量逐渐减少并趋于稳定 。
2) carbon deposition
碳沉积
1.
Simulation of carbon deposition conditions in a methane or acetylene flame based on mechanisms of chemical transport reaction;
基于化学传递反应模拟甲烷和乙炔燃焰中碳沉积的条件
2.
The effect of carbon deposition condition on gas permeability and selectivity through the membrane was investigated.
以一定浓度的酚醛树脂溶液对炭膜基板进行碳沉积处理，考察碳沉积条件对所制备的分子筛炭膜气体分离性能的影响。
3.
The results showed that when NTA was treated in CO at high temperature,the carbon doping in product TiO2 did not appear,only carbon deposition on TiO2 appeared;the BET areas of the products decreased markedly with the increase of treating temperature;The transformation temperature from anatase to rutile for TiO2 obtained by CO treatment was much lower than that obtained by air treatment.
结果表明:NTA经CO高温处理后,样品未发生C掺杂,只有碳沉积发生;随着处理温度的升高,样品的比表面积大幅下降,与NTA在空气中焙烧处理相比,由锐钛矿向金红石TiO2转变的温度提前;CO处理后产物对C3H6均未表现出可见光催化性能,但具有紫外光催化活性,随着在CO气氛中处理温度的升高,紫外光催化活性降低。
3) carbon deposition area
碳沉积区
1.
The carbon deposition area was pr.
利用俄罗斯科学院研制的CVD(chemicalvapordeposition)软件计算了在101×103Pa和700K～1500K烃催化热解以及在101×103Pa和700K～1200KCO催化热解影响碳沉积率的因素,并根据碳沉积相边界点的反应物组成绘制了碳沉积边界曲线,预测了碳沉积区,计算结果对多壁碳纳米管的制备提供了有关的信息。
4) ratio of the deposited carbon
碳沉积率
1.
The influences of the different amounts of sulfur additive and the reaction temperature on the ratio of the deposited carbon in the CH 4-H 2S system at 101325Pa, 900～1300K and CO-H 2S system at 101325Pa, 900～1200K have been calculated and analyzed by use of the CVD (chemical vapor deposition) software invented by the scientists of Russia Academy of Science.
利用俄罗斯科学院研制的CVD (Chemicalvapordeposition)软件计算分析了CH4 H2 S体系在 10 132 5Pa、90 0～ 130 0K ,CO H2 S体系在 10 132 5Pa、90 0～ 12 0 0K下不同硫添加物含量及温度对碳沉积率的影响 ;绘制了碳沉积边界曲线 ,预测了碳沉积区 ;计算筛选出了适合于不同体系制备碳纳米管的催化剂。
6) carbon precipitation
碳沉积
1.
The results showed that carbon precipitation on strip surface, formation of Fe-Zn intermetallic phases in coating, layered coating, solid impurities in coating and excessive oxidation of steel strip surface are the major reasons for imperfect adhesion of coating on continuously galvanized strip.
结果表明:带钢表面碳沉积,镀层中出现铁锌中间相,镀层分层,镀层中夹杂固体杂质,钢板表面过度氧化等是导致镀层粘附性不良的主要原因。
2.
The fluctuation of nonoxidizing furnace (NOF) ambient atmosphere and the unreasonable tapping temperature will all affect the surface condition of the strip, causing carbon precipitation on the surface of strip or excessive oxidation.
本工作通过对涟钢镀锌生产线退火炉NOF段煤气成分波动的分析,探讨了带钢表面析碳的成因,利用Factsage热化学软件的平衡模块,建立了带钢经NOF炉表面碳沉积机理的理论模型。
补充资料：含不饱和碳碳键聚合物
分子式：
CAS号：
性质：含不饱和碳碳键的功能聚合物主要有三种类型，第一种为聚合物中不饱和键相互共轭，构成线性共轭聚合物，包括聚乙炔型、聚芳杂环和聚苯衍生物。这类聚合物多具有电子导电和光导电特性，经掺杂处理后导电率可以达到半导体，甚至金属导体范围。是重要的导电聚合物。第二种为不饱和键表现为多核芳香烃，或者多核杂环等共轭结构，而各共轭结构相互之间相对独立，处在饱和聚合物的侧链上。这种聚合物多表现出一定光导特性，如聚乙烯基咔唑，是重要的高分子光导材料。第三种为不饱和键在聚合物中孤立存在，如含有肉桂酸酯的聚合物，这种聚合物在紫外光照射下能够发生交联反应，是潜在的负性光刻胶，可以用于印刷制版和集成电路生产。碳碳双键中的π电子还具有配位能力，与过渡金属离子构成类似二茂铁型络合物。
CAS号：
性质：含不饱和碳碳键的功能聚合物主要有三种类型，第一种为聚合物中不饱和键相互共轭，构成线性共轭聚合物，包括聚乙炔型、聚芳杂环和聚苯衍生物。这类聚合物多具有电子导电和光导电特性，经掺杂处理后导电率可以达到半导体，甚至金属导体范围。是重要的导电聚合物。第二种为不饱和键表现为多核芳香烃，或者多核杂环等共轭结构，而各共轭结构相互之间相对独立，处在饱和聚合物的侧链上。这种聚合物多表现出一定光导特性，如聚乙烯基咔唑，是重要的高分子光导材料。第三种为不饱和键在聚合物中孤立存在，如含有肉桂酸酯的聚合物，这种聚合物在紫外光照射下能够发生交联反应，是潜在的负性光刻胶，可以用于印刷制版和集成电路生产。碳碳双键中的π电子还具有配位能力，与过渡金属离子构成类似二茂铁型络合物。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条