1) Fenton process
Fenton过程
1.
Electrolytic respirometer was employed to measure biochemical characteristics of landfill leachate during Fenton process.
采用电解呼吸仪分析早、晚期渗滤的生化特性在Fenton过程前后的变化。
2) Fenton and UV/Fenton
Fenton及UV/Fenton
3) Fenton process
Fenton法
1.
Ways to widen pH range in Fenton process;
Fenton法中拓宽pH范围的方法
2.
Experimental study on nekal BX wastewater treatment by Fenton process;
Fenton法处理拉开粉废水的实验研究
3.
Treatment of produced water with coagulation and Fenton process;
混凝-Fenton法处理采油污水的研究
4) E-Fenton
电-Fenton
1.
Study on Treatment of Phenol Wastewater by Gas Diffusion Electrode E-Fenton Technique;
自制气体扩散电极电-Fenton对苯酚废水处理的研究
2.
Treatment of Phenol Wastewater by E-Fenton Technique;
电-Fenton法处理苯酚废水影响因素的研究
3.
Technology on Treatment of Hard Degradation Organic Wastewater by Using Fenton and E-Fenton Process;
Fenton及电-Fenton处理难降解有机废水技术
5) Fenton-like reagent
类Fenton
1.
Results indicated that chromium(III) and H2O2 could form Fenton-like reagent and microwave cou.
研究表明,Cr(III)能与H2O2形成类Fenton试剂,产生。
2.
Fenton and Fenton-like reagents were widely applied in destroying toxic organics,including POPs,which can often degrade to harmless compounds,viz.
Fenton和类Fenton试剂广泛用于持久性有机污染物的矿化处理。
6) electro-Fenton
电-Fenton
1.
A study on degradation rule of pretreatment of penicillin G wastewater by electro-Fenton process;
电-Fenton法预处理青霉素废水的降解规律研究
2.
Study status and progress in wastewater treatment by electro-Fenton method;
电-Fenton法废水处理技术的研究现状与进展
3.
Experimental Study on Degradation of Anthraquinine Dyes by Electro-fenton Process;
电-Fenton反应处理蒽醌类染料废水的试验研究
补充资料：正规过程和倒逆过程
讨论完整晶体中声子-声子散射问题时,由于要求声子波矢为简约波矢（见布里渊区），所得到的总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量G)。例如对于三声子过程有下列条件
， (1)
式中q1和q2是散射前的声子简约波矢, q3为散射后声子波矢，式(1)中G)的取值应保证q3也是简约波矢。这时会出现两种过程,其一是当q1+q2在简约区内时,可以取倒易点阵矢量G)＝0,式(1)则简化为总波矢守恒条件,称为正规过程或N过程。其二是当q1+q2超出简约区时,所取G)应保证q3仍落于简约区内,由于q3与q1+q2相差G),显然q3位于q1+q2的相反一侧，这时散射使声子传播方向发生了倒转，故称为倒逆过程或U过程。U过程总波矢不守恒,但总能量守恒,因为声子频率是倒易点阵的周期函数，而q3与q1+q2只相差一个倒易点阵矢量。N过程在低温长波声子的散射问题中起主要作用。当温度升高，简约区边界附近的声子有较多激发时，U过程变得十分显著,它对点阵热导有重要贡献。
在能带电子与声子散射问题中存在着与式 (1)相仿的总波矢条件
k+G＝k┡±q，
(2)
式中k与k┡分别为散射前后电子的简约波矢,±号分别对应于吸收或发射q声子。类似的在热中子-声子散射以及晶体中一切波的相互作用过程中，总波矢变化都相差一个倒易点阵矢量G),因此也都有N与U过程之分。这是晶体和连续媒质不同之处，连续媒质对无穷小平移具有不变性，才能求得总波矢守恒，而晶体只具有对布喇菲点阵的平移不变性，因此总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量。
， (1)
式中q1和q2是散射前的声子简约波矢, q3为散射后声子波矢，式(1)中G)的取值应保证q3也是简约波矢。这时会出现两种过程,其一是当q1+q2在简约区内时,可以取倒易点阵矢量G)＝0,式(1)则简化为总波矢守恒条件,称为正规过程或N过程。其二是当q1+q2超出简约区时,所取G)应保证q3仍落于简约区内,由于q3与q1+q2相差G),显然q3位于q1+q2的相反一侧，这时散射使声子传播方向发生了倒转，故称为倒逆过程或U过程。U过程总波矢不守恒,但总能量守恒,因为声子频率是倒易点阵的周期函数，而q3与q1+q2只相差一个倒易点阵矢量。N过程在低温长波声子的散射问题中起主要作用。当温度升高，简约区边界附近的声子有较多激发时，U过程变得十分显著,它对点阵热导有重要贡献。
在能带电子与声子散射问题中存在着与式 (1)相仿的总波矢条件
k+G＝k┡±q，
(2)
式中k与k┡分别为散射前后电子的简约波矢,±号分别对应于吸收或发射q声子。类似的在热中子-声子散射以及晶体中一切波的相互作用过程中，总波矢变化都相差一个倒易点阵矢量G),因此也都有N与U过程之分。这是晶体和连续媒质不同之处，连续媒质对无穷小平移具有不变性，才能求得总波矢守恒，而晶体只具有对布喇菲点阵的平移不变性，因此总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条