1) yttrium and cerium ion implantation
钇和铈离子注入
2) yttrium implantation
钇离子注入
1.
In the paper, the effect of yttrium implantation on the electrochemical behavior was studied by the measurement of potentiodynamic polarization curves.
通过对错表面进行不同剂量的钇离子注入及对电位极化曲线的测量,分析了钇离子注入对锆电化学行为的影响。
3) yttrium and lanthanum ion implantation
钇和镧离子共注入
4) Ce ion implantation
铈离子注入
1.
In order to investigate the oxidation behavior of Zr-4 induced by Ce ion implantation at different fluences, mass gain curves of the different specimens including as-received Zr-4 and Ce ions-implanted Zr-4 were measured after oxidation in air at 500℃.
为了研究铈离子注入对Zr-4合金氧化性能的影响,对Zr-4合金表面注入了不同剂量的铈离子, 并在500C条件下进行了空气氧化实验。
5) Ce-La RE+ implantation
铈镧稀土离子注入
6) Ce and Y
铈和钇
补充资料：硅酸钇:铈和铽
分子式：Y2SiO5:Ce3++Td3+
CAS号：
性质：白色粉末。在紫外线激活下发绿色荧光，主峰波长342nm，量子效率88％，激发光反射率0.077，流明效率1241m/W，色坐标x=0.432，y=0.547。在1350℃下用灼烧法制取。用作三基色荧光粉和高压汞灯荧光粉。
CAS号：
性质：白色粉末。在紫外线激活下发绿色荧光，主峰波长342nm，量子效率88％，激发光反射率0.077，流明效率1241m/W，色坐标x=0.432，y=0.547。在1350℃下用灼烧法制取。用作三基色荧光粉和高压汞灯荧光粉。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条