1) compound ion implantation
复合离子注入
1.
Technologies of compound ion implantation applied to improve the mechanical properties of W9Cr4V2Mo bearing steel are presented.
应用复合离子注入法改善了W 9Cr4V2Mo轴承钢的耐磨性能。
2) implanting Ta by dynamically mixing ion beams
离子束混合注入
1.
Influence on GCr 15 corrosion resistance through implanting Ta by dynamically mixing ion beams;
1mol/L NaCl溶液中电化学方法测试和人造海水环境的模拟试验及盐雾试验检测结果表明,离子束混合注入Ta具有极好抗全面腐蚀和抗点腐蚀的性能,其效果优于注Ti或注Cr,其耐蚀性提高的机理是由于注入表面形成高稳定性的Ta_2O_5防护膜和富钽的非晶态合金层。
3) Co-implanted
组合离子注入
1.
The rocking curves of As +/N 2 + co-implanted Si with the same implanted energy,the different implanted doses,and the different annealing temperature are obtained by the X-ray double-crystal diffraction instrument.
采用双晶 X射线衍射仪测量了相同注入能量、不同注入剂量的 As+ / N2 + 组合离子注入 Si的衍射曲线 ,借助X射线衍射的运动学理论和离子注入的多层模型 ,对衍射曲线进行拟合 ,得到了晶格应变随注入深度的分布及辐射损伤分布 。
4) ion implantation mixing
离子注入混合
1.
It includes plasma based ion implantation(PBII) and ion implantation mixing (PBIIM) for aluminum alloys, titanium alloys, bearing steels and their application in industries.
简要总结了哈工大近 10年来在材料的等离子体基离子注入表面改性方面的工作 ,包括铝合金、钛合金、轴承钢的等离子体基离子注入 ,等离子体基离子注入混合 ,以及等离子体基离子注入的工业应用
5) ion implantation
离子注入
1.
Study on characteristics and technology of ion implantation-assisted electroless copper plating films on Al_2O_3 ceramics;
离子注入辅助Al_2O_3陶瓷表面化学镀镀层特性研究
2.
Application of ion implantation and D-gun spraying technology to improve Operation life for jet element of fluid efflux hammer;
应用离子注入和爆炸喷涂技术提高液动锤射流元件寿命
3.
Application of low energy ion implantation in breeding of high yield CGTase strains;
低能离子注入在CGTase高产菌株选育中的应用
6) Ion-implantation
离子注入
1.
Substituting Epitaxy by Ion-implantation in the Production of Microphone Devices;
改用离子注入替代外延生产话筒管
2.
Study on ion-implantation induced intermixing effect of quantum well by using photoluminescence spectroscopy;
离子注入诱导量子阱界面混合效应的光致荧光谱研究
3.
Using single energy or overlapped energy ion-implantation technology,a modified layer was formed after C ions implanted into uranium.
利用离子注入技术,分别采用单能量和多能量叠加注入方式在铀表面注入碳形成表面改性层,并对改性层的形貌、注入元素的分布和相结构分别进行扫描电镜(SEM)、俄歇电子能谱(AES)及表面相结构衍射谱(XRD)分析,利用电化学极化法测试注入样品的抗腐蚀性能。
补充资料：离子注入（ionimplantation）
离子注入（ionimplantation）
用离子加速器将各种离子注入半导体材料，从而改变半导体材料的电学、光学或其他物理性质的半导体工艺技术，称为离子注入技术。自从20世纪70年代以来离子注入技术在半导体器件制备工艺中获得了广泛应用，是半导体器件工艺的最主要技术之一。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条