1) photoacid generator
光产酸源
2) latent braised acid
产酸源
1.
The radiation sensitive layer is comprised of (1) a novolac resin,(2) a resole resin, (3) a latent braised acid, and (4 ) an infrared light absorber.
其热敏层的基本组成为:(1)线型酚醛树脂;(2)羟甲基酚醛树脂;(3)产酸源;(4)红外吸收染料。
3) PAG
光产酸剂
1.
The properties of a new photoacid generator(PAG) for 193 nm photoresist;
一种新型的193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的性质分析
2.
We also have synthesized diphenyliodonium trimethylsilyl triflate as photo-acid-generator(PAG) in the lab.
本文通过沉淀聚合合成了聚(甲基丙烯酸-co-甲基丙烯酸甲酯-co-甲基丙烯酸叔丁酯-co-甲基丙烯酸异冰片酯)四元共聚物,合成了光产酸剂二苯碘三氟甲基磺酸盐,在净化室中以聚(甲基丙烯酸-co-甲基丙烯酸甲酯-co-甲基丙烯酸叔丁酯-co-甲基丙烯酸异冰片酯)四元共聚物为主体树脂,以二苯碘三氟甲基磺酸盐为光产酸剂,选择合适的溶剂进行配方优化实验,最终得到实验范围内的优化光刻胶,并进行系统的光刻试验。
4) photoacid generator
光产酸剂
1.
Thus formed compound can be quickly decomposed at the presence of strong acid generated by photoacid generator(PAG) above 100 ℃ and become easily soluble in dilute aqueous base.
这样形成的产物在光产酸剂产生的强酸催化下,在温度高于100℃时,可以迅速分解,从而变成稀碱水易溶。
2.
This paper introduces the latest development of the photoresist and the photoacid generator (PAG) used in the chemical amplified photoresist -the preparation of the sulfonium salts.
介绍了国内外光致抗蚀剂的研究进展、化学增幅光致抗蚀剂用光产酸剂———硫鎓盐的主要合成方法,同时介绍了193nm光致抗蚀剂所使用的光产酸剂及其合成方法,指出合成193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的重要性。
5) photo-acid generator
光致产酸剂
1.
This paper describes the evolution and status of the 193 nm photoresists in aspects of matrix resins,photo-acid generator,dissolution inhibitor,base additives,existing problems and ways of solutions.
从193nm光刻胶的各个组分,如:主体树脂、光致产酸剂、溶解抑制剂、碱性添加剂以及存在的问题和解决途径等多个方面综述了193nm深紫外光刻胶的发展与现状。
2.
This paper discuss the preparation technology of 193 nm photoresist from the structure design of matrix polymer,the synthetic technology of monomer and of matrix polymer, the evaluation of photo-acid generator and prescription research.
从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方。
3.
This paper gives an overview of development history of immersion lithography,the challenges being faced and the requirements of the immersion photoresist;the recent progress of the main resin,the photo-acid generator and the additives are reviewed.
本文概述了浸没式光刻技术的发展历程和浸没式光刻胶遇到的挑战及要求;对浸没式光刻胶主体树脂、光致产酸剂及添加剂的研究进展进行了综述;最后对浸没式光刻胶的研究发展方向作了进一步的探讨及初步预测。
6) Photosensitive acid generator
光敏产酸物
补充资料：光中子源
分子式：
CAS号：
性质：采用放射性核素放出的γ光子轰击靶核而产生中子的源。常用的124Sb-9Be源。其优点是价格低廉，生产简便，产生的中子是单能的，可再生。
CAS号：
性质：采用放射性核素放出的γ光子轰击靶核而产生中子的源。常用的124Sb-9Be源。其优点是价格低廉，生产简便，产生的中子是单能的，可再生。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条