1) rectangular photoresist grating
矩形光刻胶光栅
2) photoresist grating
光刻胶光栅
1.
High temperature resistant photoresist grating molding fabrication and replication technique and its application;
耐高温光刻胶光栅模板的制作与转移技术及其应用
2.
A new technique for controlling the duty cycle(ratio of ridge width to period) of photoresist gratings made on top of a multilayer dielectric stack is studied.
研究一种控制多层介质膜上的光刻胶光栅掩模占宽比(线宽与周期之比)的新方法。
3) Rectangular grating
矩形光栅
1.
For the purpose of design and fabrication, diffraction efficiencies of the trapeziform phase gratings are deduced and compared with rectangular gratings.
为了符合实际加工情形 ,推导了梯形相位光栅衍射效率 ,与矩形光栅作了比较 ,设计其用作高密度光盘存储光学头分光束器件时的各参数 ,并分析推导了系统和随机加工误差对光栅性能的影响及设计原
4) Photoresist grating masks
光刻胶光栅掩模
5) rectangular wave grating
矩形波光栅
6) resist image
光刻胶图形
补充资料：光刻胶用染料
分子式：
CAS号：
性质：微电子工业光刻过程中所用的染料。通常是那些含两个或三个双偶氮萘醌功能团的化合物和一些茚-3-羧酸类染料。三芳甲烷类染料和芘蒽衍生物是特殊用途的(在曝光过程中存在氧化还原反应和自由基)光刻胶用染料。
CAS号：
性质：微电子工业光刻过程中所用的染料。通常是那些含两个或三个双偶氮萘醌功能团的化合物和一些茚-3-羧酸类染料。三芳甲烷类染料和芘蒽衍生物是特殊用途的(在曝光过程中存在氧化还原反应和自由基)光刻胶用染料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条