1) double glow plasma chromizing
双辉等离子渗铬
1.
Low temperature double glow plasma chromizing process of T8 steel was studied.
研究了 T8钢低温双辉等离子渗铬工艺 ,分析了改性层的显微组织和相结构 ,测量了改性层的厚度、硬度及铬浓度分布 ,并对改性层进行了划痕检验。
3) double-glow plasma carburization
双辉等离子渗碳
1.
Ti(C,N)-based cermets were prepared by vacuum liquid sintering and then heat-treated by double-glow plasma carburization.
通过真空液相烧结制备出Ti(C,N)基金属陶瓷基体,并对基体表面进行双辉等离子渗碳处理。
4) double glow discharge plasma chromizing
双层辉光离子渗铬
5) double glow discharge alloying process
双层辉光等离子渗金属
6) double-glow plasma surface alloying technology
双辉等离子渗金属
1.
A continuous and compact niobium modified surface alloying layer was prepared on 0Cr18Ni9 austenitic stainless steel substrate using double-glow plasma surface alloying technology and the depth of modified layer is about 22 μm.
采用双辉等离子渗金属技术在0Cr18Ni9奥氏体不锈钢表面形成厚22μm、均匀致密连续的渗铌合金层。
补充资料：等离子体双液体模型
等离子体双液体模型
two - liquid plasma model
。八取。e，，Mo八e二‘n”臼M“l 一种流体动力学模型，在其中等离子体被看作是由两种互相穿透运动的“液体”(电子和离子的液体)组成的.等离子体的电阻被认为是这些液体之间相互摩擦的结果. 按电子只受电子压p。作用而离子只受离子压几作用的假设，运动方程组有形式 业1竺址_一。丁E一李:v_、Hl!+ dt一(一“‘’尸一’少 VP。。__，、， 一-兰二生一Rn，(V一V、.门) 刀e 攀一{二告:一小 VP，n__，、， 一-二止生七一Rn_(V一V_)fZ) 儿，电子和离子之间的相互作用是通过摩擦力来考虑的，该力正比于速度差与运动减速粒子的浓度之乘积.量R称为相互摩擦系数或扩散阻力系数.考虑到等离子体的类中性条件(”。二Zn，=”)，等离子体双液体模型的运动方程化为形式 dV 11 二分=一含V尸+:子二[j xH]， d tP’J’Pe其中 儿MV.+”_mV_ V=.‘二二二~‘-‘--‘二里止二‘‘乙 Mn，+水n。是平均质量速度，p一p，+几是总压力，而j二e(Zn，V一n。V。)是离子流.如果m/M<
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参考词条