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1)  integrating process
积分过程
1.
A robust PID parameters tuning method based on loop shaping is presented to control the integrating process.
积分过程在工业过程控制中经常遇到,采用常规的PID参数整定方法很难得到理想的控制效果。
2)  integral process
积分过程
1.
Aiming to solve the big difficulty that the dynamic matrix control algorithm (DMC) could not be directly applied on the process with an integral unit,a DMC that can deal with integral process was investigated.
由于动态矩阵控制预测控制算法无法直接控制带有积分环节的过程,针对这一困难,研究了一种适用于积分过程的DMC算法。
3)  integrator process
积分过程
1.
A control scheme is proposed in this paper for integrator processes with long delay.
提出了一种包含三个控制器的大时滞积分过程控制方案,给出了简单的设计和整定方法。
4)  wiener integral processes
Wiener积分过程
5)  IPR process analysis
积分过程率分析
6)  integrating process with time delay
积分时滞过程
1.
Control algorithm applied to an integrating process with time delay based on the Dahlin controller;
基于Dahlin控制器的积分时滞过程控制
补充资料:正规过程和倒逆过程
      讨论完整晶体中声子-声子散射问题时,由于要求声子波矢为简约波矢(见布里渊区),所得到的总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量G)。例如对于三声子过程有下列条件
  
  
     , (1)
  式中q1和q2是散射前的声子简约波矢, q3为散射后声子波矢,式(1)中G)的取值应保证q3也是简约波矢。这时会出现两种过程,其一是当q1+q2在简约区内时,可以取倒易点阵矢量G)=0,式(1)则简化为总波矢守恒条件,称为正规过程或N过程。其二是当q1+q2超出简约区时,所取G)应保证q3仍落于简约区内,由于q3与q1+q2相差G),显然q3位于q1+q2的相反一侧,这时散射使声子传播方向发生了倒转,故称为倒逆过程或U过程。U过程总波矢不守恒,但总能量守恒,因为声子频率是倒易点阵的周期函数,而q3与q1+q2只相差一个倒易点阵矢量。N过程在低温长波声子的散射问题中起主要作用。当温度升高,简约区边界附近的声子有较多激发时,U过程变得十分显著,它对点阵热导有重要贡献。
  
  在能带电子与声子散射问题中存在着与式 (1)相仿的总波矢条件
  k+G=k┡±q,
  
     (2)
  式中k与k┡分别为散射前后电子的简约波矢,±号分别对应于吸收或发射q声子。类似的在热中子-声子散射以及晶体中一切波的相互作用过程中,总波矢变化都相差一个倒易点阵矢量G),因此也都有N与U过程之分。这是晶体和连续媒质不同之处,连续媒质对无穷小平移具有不变性,才能求得总波矢守恒,而晶体只具有对布喇菲点阵的平移不变性,因此总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量。
  

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