用Ne离子束混合法制备了Ni／Cr多层膜，用Auger光电子能谱（AES）、X射线衍射（XRD）分析离子束混合多层膜的元素组成、分布和相结构，将其结果与简单蒸发沉积的Ni／Cr多层膜结构进行比较同时，对多层膜（轰击与未轰击）的硬度及摩擦学性能进行测定分析比较结果表明，离子束混合多层膜的硬度和抗磨性能与简单蒸发沉积多层膜相比都有提高这主要是因为Ne离子的轰击作用使多层膜更加致密及膜内的碳化铬硬质弥散相向界面处偏聚，使多层界面的强化作用得到加强，从而提高了多层膜的抗磨性

采用磁控溅射方法制备了Co/Ni多层膜并做了热处理,测量了系列样品的结构、磁性和磁电阻。

采用磁控溅射方法制备了结构相同、溅射气压不同的两个系列的Co/Ni多层膜,进行了结构、磁性和磁电阻测量。