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1)  Collapse pile (Gelolgical body from karst accumulation)
陷落柱(岩溶沉积地质体)
2)  karst sink hole
岩溶陷落柱
1.
Shear failure water inrush mode at karst sink hole bottom in North China coal field;
华北型煤田岩溶陷落柱顶底部剪切破坏突水模式
2.
Water conducted type karst sink hole and prediction of water inrush risk;
岩溶陷落柱导水类型及其突水风险预测
3.
Surface and underground combined seismic survey to define space distribution of karst sink hole;
地面-井下联合地震勘探确定岩溶陷落柱空间分布
3)  Paleo-sinkholes
岩溶陷落柱
1.
The study on water conductivity of paleo-sinkholes in North-China-Type coalfields
华北型煤田岩溶陷落柱导水性研究
2.
The Paleo-sinkholes in Gequan mine developed very well,and had obvious distributing rules which are denseness in group,network strip distribution,approximately equidistant distribution,tectonic controlled.
葛泉岩溶陷落柱非常发育且具有明显分布特征和规律:密集成群性、网络带状分布性、似等距分布性、构造控制性。
4)  karstic collapse columns
岩溶陷落柱
1.
Hydrogeological and mechanical basics of water inrush from karstic collapse columns in Northern China;
华北岩溶陷落柱突水的水文地质及力学基础
2.
Water inrush from the karstic collapse columns is harmful to mining safety.
岩溶陷落柱是中国北方型石炭二迭纪煤田的一种特殊隐伏垂向构造,广泛分布于20个煤田45个煤矿区,对煤矿安全生产危害极大。
3.
The basic forming coditions and distribution of the karstic collapse columns in coal field of North China type are discussed in this paper.
本文阐述了华北型煤田内岩溶陷落柱形成的基本条件及其分布规律,依其导水性把陷落柱划分为三大水文地质类型,指出多数是隔水的,但若形成较新或处于强径流带及集中排泄带,可成为矿床充水通道,勿通奥灰水进入矿坑,发生突水淹井事故。
5)  karst collapse pillar
岩溶陷落柱
1.
Development regularity of karst collapse pillar and its prevention in Fangezhuang Coal Mine;
范各庄矿岩溶陷落柱发育规律及防治对策
2.
:Karst collapse pillars are one of serious geological disasters in coal mining in China.
岩溶陷落柱是煤矿生产中严重的地质灾害之一。
6)  karst collapse column
岩溶陷落柱
1.
The background of rocks mechanics of karst collapse column in Shanxi;
山西岩溶陷落柱的岩体力学背景
2.
Since the shaft building in 1971, in the process of underground production and excavation,seven karst collapse columns are disclosed altogether in Liuqiao No.
陈集向斜为刘桥一矿的主体构造,刘桥一矿从1971年建井至今,在井下掘进生产过程中共揭露岩溶陷落柱7个,通过对岩溶陷落柱发育特征资料的收集整理,发现陷落柱分布具有一定的规律性。
补充资料:等离子体增强化学气相沉积


等离子体增强化学气相沉积
plasma enhanced chemical vapor deposition

等离子体增强化学气相沉积plasma enhancedChemieal vapor deposition使原料气体在电场中成为等离子体状态,产生化学上非常活泼的激发态分子、原子、离子和原子团等,促进化学反应,在衬底表面上形成薄膜的技术。简称PECVD。它的基本原理是利用等离子体中电子的动能促进化学反应。这一原理在一个世纪前就已被发现,20世纪60年代才开始用于制备薄膜。 在电场的作用下,气体分子成为电离状态,通过正、负电荷之间的激烈作用形成等离子体。在低压容器中,电子由于平均自由程大而得以加速,与中性分子或原子发生碰撞。其中,弹性碰撞使气体温度升高,而非弹性碰撞则使原子和分子激发、离解及电离化,产生化学活性的离子和原子团,促进化学反应。 PECVD淀积主要包括4个过程:①电子与反应气体在等离子体中反应生成离子及自由基;②反应物质从等离子体中输运到衬底表面;③离子、自由基与衬底反应或在其表面吸附;④反应物质或反应产物在衬底上排列成薄膜。后两个过程是决定薄膜质量的主要因素。 PECVD设备主要包括放电系统、抽气系统、反应室及气体导入系统。放电系统用于产生等离子体,一般采用高频电源,频率为50kHz至2.45GHz。高频功率的祸合方式可大致分为电感祸合和电容祸合两类。 PECVD的优点是可在较低温度下成膜,热损失少,从而抑制了与衬底的反应,并可在非耐热衬底上成膜。缺点是衬底表面及薄膜易因高能粒子的轰击而造成损伤,产生缺陷。 PECVD法已广泛应用于制备非晶硅膜、氮化硅、氧化膜等钝化膜‘它也是制备高分子薄膜的重要方法,这时又被称为等离子体聚合法。(章熙康)
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参考词条