1) Silicon tetrachloride
四氯化硅(SiCl4)
2) silicon tetrachloride
四氯化硅
1.
The application of DCS in the production of silicon tetrachloride;
分布式控制系统在四氯化硅生产中的应用
2.
Advance on industrial application research of silicon tetrachloride;
四氯化硅工业应用研究进展
3) tetrachlorosilane
四氯化硅
1.
Synthesis of 1,3 bis(3,5 dibromophenyl)but 2 en l one catalyzed by tetrachlorosilane;
四氯化硅催化合成1,3-二(3,5-二溴苯基)丁烯-2酮-1
2.
Self condensation of m bromoacetophenone,catalyzed by tetrachlorosilane in mole ratio n (m bromoacetophenone)∶ n (tetrachlorosilane)=1∶1 afforded 1,3 bis (3′ bromophenyl)but 2 en 1 one(A) in 52% yield.
2制得间溴苯乙酮 ,产率为 6 5 % ;间溴苯乙酮与催化剂四氯化硅按n(间溴苯乙酮 )∶n(四氯化硅 ) =1∶1在无水乙醇中经缩合反应制得 1,3 二 (3′ 溴苯基 )丁烯 2 酮 1(A) ,产率为5 2 % ,以此为中间体与对氯苯乙酮在四氯化硅催化下按n(A)∶n (对氯苯乙酮 )∶n (四氯化硅 )=1。
3.
The condensation of p-methoxyacetophenone(Ⅰ)catal yzed by tetrachlorosilane(TCS) with mole ratio n(Ⅰ)∶n(TCS )=4.
以对甲氧基苯乙酮 (Ⅰ )为原料 ,四氯化硅 (TCS)为催化剂 ,按n(Ⅰ )∶n(TCS) =4 3∶10的量比 ,在绝对乙醇中经缩合反应制得 1,3 ,5 三 ( 4 甲氧基苯基 )苯 (Ⅱ ) ,产率为 72 % ,以此为中间体与三溴化硼按n(Ⅱ )∶n(BBr3) =1∶4的量比在无水二氯甲烷中经脱甲基反应合成了 1,3,5 三 ( 4 羟基苯基 )苯 (Ⅲ ) ,产率为 81%。
4) chlorid kremicity
四氯化硅,四氯四硅烷
5) high purity silicon tetrachloride
高纯四氯化硅
1.
A method for determination of 9 metal impurities in high purity silicon tetrachloride was developed.
本文对钛厂回收副产物高纯四氯化硅中的9种金属杂质进行了测定。
6) electronic grade silicon tetrachloride
电子级四氯化硅
补充资料：电子级四氯化硅
分子式： SiCl4
CAS号：
性质：无色、有腐蚀性、不可燃液体，有令人窒息的臭味。曝露于湿空气时形成浓烟，迅速水解放出氯化氢。沸点57.6℃。熔点-70.0℃。液体密度1483kg/m3(21.1℃)。TLV(按HCl)5×10-6。其制法是以工业级四氯化硅为原料，采用精馏工艺，或再与吸附工艺相结合进行提纯。四氯化硅用作半导体硅外延的硅源。由于它的沸点高，可作为优良的低温硅淀积的源材料。
CAS号：
性质：无色、有腐蚀性、不可燃液体，有令人窒息的臭味。曝露于湿空气时形成浓烟，迅速水解放出氯化氢。沸点57.6℃。熔点-70.0℃。液体密度1483kg/m3(21.1℃)。TLV(按HCl)5×10-6。其制法是以工业级四氯化硅为原料，采用精馏工艺，或再与吸附工艺相结合进行提纯。四氯化硅用作半导体硅外延的硅源。由于它的沸点高，可作为优良的低温硅淀积的源材料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条