2) inductively coupled plasma etcher(ICPE)
电感耦合等离子体蚀刻器
3) inductive coupled plasma(ICP) etching
电感耦合等离子体(ICP)刻蚀
1.
Using specially designed InGaAsP/InP multiple quantum well(MQW) structure,the damage effects of Cl2/H2 inductive coupled plasma(ICP) etching were investigated systematically,and the key processing parameters for low damage ICP etching have been optimized.
采用特别设计的InGaAsP/InP多量子阱结构(MQW),研究了Cl2/H2电感耦合等离子体(ICP)刻蚀损伤,优化了低损伤ICP刻蚀的关键工艺参数,得到了一种低损伤、形貌良好的Bragg光栅的制作方法。
4) inductively coupled plasma etching system
感应耦合型等离子体蚀刻系统
5) inductively coupled plasma(ICP) etching
感应耦合等离子体(ICP)刻蚀
1.
Red GaInP/AlGaInP microsquare lasers with output waveguide are fabricated by standard photolithography and inductively coupled plasma(ICP) etching techniques.
利用普通光刻和感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术制作了红光GaInP/AlGaInP正方形微腔激光器,光功率电流曲线表明,器件实现了200 K的低温激射。
6) inductively coupled plasma reactive ion etching
电感耦合反应离子刻蚀
补充资料：单通道电感耦合等离子体单色仪
分子式：
CAS号：
性质：由电感耦合等离子光源与扫描单色仪组成的发射光谱分析仪器。是一种只能进行单个元素分析的装置；结构简单，造价低廉，测定速度慢，消耗氩气及试样量大。测定某元素时，将波长调到其分析线位置，然后将试样喷入电感耦合等离子体喷焰中。
CAS号：
性质：由电感耦合等离子光源与扫描单色仪组成的发射光谱分析仪器。是一种只能进行单个元素分析的装置；结构简单，造价低廉，测定速度慢，消耗氩气及试样量大。测定某元素时，将波长调到其分析线位置，然后将试样喷入电感耦合等离子体喷焰中。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条