1) surface deposition
表面淀积
1.
Barium titanate based PTC ceramics doped by Nb-Si-Mn heterogeneous nucleation surface deposition method;
铌硅锰非均匀形核表面淀积掺杂PTC陶瓷
2) settling area
沉淀面积
3) surface precipitation
表面沉淀
4) bloom
[英][blu:m] [美][blum]
霉霜(降低玻璃表面反射的蒸汽淀积层)
5) Volume surface area
容积表面积
6) Specific surface area
比表面积
1.
Effect of pretreated by K_2Cr_2O_7 solution and activated on specific surface area of carbon fiber;
重铬酸钾溶液预处理及活化对炭纤维比表面积的影响
2.
Variation of pore structure of semi-coke with temperature and spatial location during pyrolysis ——Porosity,specific surface area and pore size distribution;
焦化过程半焦孔隙结构时空变化规律的实验研究——孔隙率、比表面积、孔径分布的变化
3.
Calculation of the specific surface area of the froth in flotation;
煤泥浮选气泡比表面积的计算方法
补充资料：化学气相淀积（chemicalvapourdeposition(CVD)）
化学气相淀积（chemicalvapourdeposition(CVD)）
化学气相淀积是一种气体反应过程。在这个过程中，由某些选定气体的热诱导分解在衬底上形成某种介质层。在硅平面器件及集成电路中最常用的是淀积SiO2，Si3N4和多晶硅。化学气相淀积也广泛用于半导体单晶薄膜的外延生长，特别是多层膜的外延生长。在光电子器件和微波器件的制作中尤其常用。CVD方法视工作时反应室中气体压强不同分为常压、低压和超低压CVD。根据化学反应能量提供方式不同可分为热分解、光加热、射频加热、热丝、光、等离子体增强和微波等离子体增强CVD。按反应气源不同又分为卤化物、氢化物和金属有机化合物CVD（MOCVD）。
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参考词条