1) dry cleaning
干法清洗
1.
The plasma process is an important part of the dry cleaning s application.
等离子体工艺是干法清洗应用中的重要部分,随着微电子技术的发展,等离子体清洗的优势越来越明显。
2.
The productivity of dry cleaning is improved as well.
随着微电子工艺的发展,湿法清洗越来越局限,而干法清洗能够避免湿法清洗带来的环境污染,同时生产率也大大提高。
3.
The primary introduction of the type and the impact of contamination in semi-conductor IC processing are given, and described the method of contamination removal, analyzedthe feature of wet cleaning and dry cleaning, and the effect of contamination removal.
介绍了半导体IC制程中存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响和各种污染物的去除方法,并对湿法和干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。
2) dry ice cleaning
干冰清洗
1.
Application of dry ice cleaning in heating furnace tube of petrochemical atmospheric pressure and decompression;
干冰清洗在石化常减压加热炉炉管清灰技术的应用
2.
Application of dry ice cleaning technology in automotive industry;
干冰清洗技术在汽车行业的应用
3.
Application status and prospect of dry ice cleaning in China;
我国干冰清洗技术的应用现状及展望
4) ablution
[英][əb'lu:ʃən] [美][əb'luʃən]
洗净，清洗法
6) CPU Dry Clean
CPU干刻清洗
1.
The Evaluation and Application of CPU Dry Clean Process on Ash Chamber of Metal Etch;
CPU干刻清洗工艺在金属刻蚀去胶腔上的评价及应用
补充资料：不停车物理清洗法
分子式：
CAS号：
性质：又称不停车物理清洗法。在系统处于运行条件下，使用清洗机械进行设备的清洗作业。
CAS号：
性质：又称不停车物理清洗法。在系统处于运行条件下，使用清洗机械进行设备的清洗作业。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条