1) Y_2O_3-doped ZrO_2 film
掺钇氧化锆薄膜
2) yttrial-stabilized zirconia films
氧化钇稳定氧化锆薄膜
1.
The residual stress in yttrial-stabilized zirconia films was measured ZYGO Mark Ⅲ-GPI digital wavefront interferometer.
利用ZYGOMarkⅢ-GPI数字波面干涉仪对氧化钇稳定氧化锆薄膜的残余应力进行了研究,讨论了沉积温度对残余应力的影响。
3) Al-doped ZrO_2 thin film
铝掺杂氧化锆薄膜
4) yttrium stabilized cubic zirconia films
钇稳定立方相氧化锆薄膜
5) ZrO_2 film
氧化锆薄膜
1.
Characters of ZrO_2 films deposited by electron beam evaporation at different oxygen partial pressure;
不同氧分压下电子束蒸发氧化锆薄膜的特性
6) ytttiun-doped zirconium (YSZ) and gadolinia-doped ceria (CGO)
掺氧化钇的氧化锆(YSZ)和掺氧化钆的氧化铈(CGO)
补充资料：氧化锆-氧化钇红外陶瓷
分子式： ZrO2-Y2O3
CAS号：
性质：一种以二氧化锆为基体固溶6％～8％(mol)氧化钇的红外光学材料。立方晶结构。熔点2700℃。密度5.98g/cm3。红外透射波段1～10μm。采用1450℃以上高温烧结或1300～1700℃，50～300MPa热压制取。用于制造耐高温红外窗口和整流罩。
CAS号：
性质：一种以二氧化锆为基体固溶6％～8％(mol)氧化钇的红外光学材料。立方晶结构。熔点2700℃。密度5.98g/cm3。红外透射波段1～10μm。采用1450℃以上高温烧结或1300～1700℃，50～300MPa热压制取。用于制造耐高温红外窗口和整流罩。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条