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1)  ZnO/AlN/Si film growth
ZnO/AlN/Si薄膜生长
2)  Si film growth
Si薄膜生长
3)  AlN thin film
AlN薄膜
1.
Pulsed KrF excimer laser deposition of AlN thin films;
AlN薄膜的KrF准分子脉冲激光沉积
2.
Physical properties and deposition technique of AlN thin films are described.
介绍了AlN薄膜物理性质及制备方法;综述了AlN薄膜作为薄膜电致发光(TFEL)器件发光层的研究现状;对AlN薄膜发光性能的应用前景做了展望。
3.
AlN thin films are promising to be used as insulator for high-temperture and high-power devices in microelectronics fields.
AlN薄膜作为绝缘层材料,在微电子领域的高温高功率器件中有很大应用潜力。
4)  AlN thin films
AlN薄膜
1.
Effect of deposition parameters and RTA conditions on electrical properties of AlN thin films;
沉积参数及退火条件对AlN薄膜电学性能的影响
2.
AlN thin films with dominant crystalline structure were prepared on Si(111) substrate at low temperature (200℃) with a KrF excimer pulsed laser by varying the deposition conditions.
用KrF准分子脉冲激光在 2 0 0℃的Si(111)基板上通过改变制备条件 ,采用沉积后直接保温处理的方式制备出了具有不同择优取向的AlN薄膜 ,并得出了较高的处理温度和过长的时间不利于AlN相的形成的结论。
5)  TiN/AIN thin film
TiN/AlN薄膜
6)  AlN film
AlN薄膜
1.
Fabrication of a novel SOI-structure with AlN film as buried insulator;
制备AlN薄膜为绝缘埋层的新型SOI材料
2.
AlN film was deposited on the surface of 1Cr18Ni9 stainless steel by PCVD technique using AlCl_3 as the source of Al.
采用等离子体化学气相沉积 (PCVD)技术 ,以AlCl3作铝源在 1Cr18Ni9不锈钢表面沉积AlN薄膜 ,探讨了不同沉积时间和温度对薄膜硬度的影响 ,并对AlN薄膜的耐蚀性进行了研究。
补充资料:诺德人体生长激素,基因重组人生长激素,健高买,重组人生长激素
药物名称:重组人生长激素

英文名:Somatropin

别名:诺德人体生长激素,基因重组人生长激素,健高买,重组人生长激素
外文名:Saizen, Norditropin, Genotropin, Norditropin, DNA-rhGH
药理作用:为DNA重组技术生产的人体生长激素,是促进生长的机制之一,能刺激IGF-1和蛋白质合成,促进骨骼和体细胞的生长,利于脂肪分解和蛋白质合成,使肌肉增加,脂肪减少.
适应症:用于内源性生长激素分泌不足或先天性性腺发育不全(特纳综合征)所引起的生长发育障碍,青春期前慢性肾功能不全所引起的生长发育障碍,成人生长激素不足的替代疗法(用于心功能不全等).
注意点:1.配制药液时不可振荡,以免变性.2.每周剂量分7天皮下注射,注射部位应更换,如有一天漏注,则第二天不必倍量补注。3.糖尿病、妊娠、乳母慎用。4.恶性肿瘤术后,对本品过敏者,各种活动性恶性肿瘤禁用。5.不良反应可能会有甲状腺功能减退,液体潴留、伴周围水肿,曾有少数良性颅内高压病例的报告。
用量用法:成人:生长激素不足:0.125iu/(kg.周) 。 先天性子宫发育不全: 1iu/(kg.周),以上剂量均分作7天皮下注射。
规格:针剂:4iu, 10iu, 12iu, 16iu.

类别:生殖系统药/促进子宫成熟药
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参考词条