1) process tracking/monitoring
过程跟踪与监控
1.
Thus,the functional and information models are established to track/monitor the whole production process in workshop and,based on it,a production-oriented process tracking/monitoring system is developed for manufacturing workshop in CIMS environment utilizing COM+.
以某企业制造过程管理与资源优化配置系统研究与开发为背景,分析了车间生产过程跟踪管理的业务流程,建立了完整的车间级生产过程跟踪与监控系统功能模型和信息模型。
4) Project Tracking and Oversight
项目跟踪与监控
1.
In the process of Project Tracking and Oversight,The paper disucss how to manage the develop process by the task list.
在项目跟踪与监控过程中,本文介绍了如何以项目任务单为核心来进行项目任务过程的管理。
2.
Software project tracking and oversight(SPTO) is an important component of the software process management,and the key of it is how to carry on the effective tracking and analysis of the project.
将软件度量与软件项目跟踪与监控活动联系在一起,提出了一个完整的基于度量的SPTO过程实施模型,围绕该过程模型研究了项目跟踪与监控的实施方法,使软件企业能够更高效的理解、控制和改进软件项目开发。
5) process driving and monitoring
过程推动与跟踪
6) monitoring
[英]['mɔnitə] [美]['mɑnətɚ]
跟踪监控
1.
According to the difference of materials production and their monitoring requirements,the monitoring levels are partitioned and designed and the multi-layer materials monitoring mode is found.
最后,通过一个复杂装备企业生产管理系统中物料跟踪监控的应用实例,验证了该方法的合理性和有效性。
2.
According to the differences of material monitoring requirements,a multi-layer material monitoring mode was found.
通过一个复杂装备企业的生产管理系统中物料跟踪监控的应用实例,表明了该方法的合理性和有效性。
补充资料：正规过程和倒逆过程
讨论完整晶体中声子-声子散射问题时,由于要求声子波矢为简约波矢（见布里渊区），所得到的总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量G)。例如对于三声子过程有下列条件
， (1)
式中q1和q2是散射前的声子简约波矢, q3为散射后声子波矢，式(1)中G)的取值应保证q3也是简约波矢。这时会出现两种过程,其一是当q1+q2在简约区内时,可以取倒易点阵矢量G)＝0,式(1)则简化为总波矢守恒条件,称为正规过程或N过程。其二是当q1+q2超出简约区时,所取G)应保证q3仍落于简约区内,由于q3与q1+q2相差G),显然q3位于q1+q2的相反一侧，这时散射使声子传播方向发生了倒转，故称为倒逆过程或U过程。U过程总波矢不守恒,但总能量守恒,因为声子频率是倒易点阵的周期函数，而q3与q1+q2只相差一个倒易点阵矢量。N过程在低温长波声子的散射问题中起主要作用。当温度升高，简约区边界附近的声子有较多激发时，U过程变得十分显著,它对点阵热导有重要贡献。
在能带电子与声子散射问题中存在着与式 (1)相仿的总波矢条件
k+G＝k┡±q，
(2)
式中k与k┡分别为散射前后电子的简约波矢,±号分别对应于吸收或发射q声子。类似的在热中子-声子散射以及晶体中一切波的相互作用过程中，总波矢变化都相差一个倒易点阵矢量G),因此也都有N与U过程之分。这是晶体和连续媒质不同之处，连续媒质对无穷小平移具有不变性，才能求得总波矢守恒，而晶体只具有对布喇菲点阵的平移不变性，因此总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量。
， (1)
式中q1和q2是散射前的声子简约波矢, q3为散射后声子波矢，式(1)中G)的取值应保证q3也是简约波矢。这时会出现两种过程,其一是当q1+q2在简约区内时,可以取倒易点阵矢量G)＝0,式(1)则简化为总波矢守恒条件,称为正规过程或N过程。其二是当q1+q2超出简约区时,所取G)应保证q3仍落于简约区内,由于q3与q1+q2相差G),显然q3位于q1+q2的相反一侧，这时散射使声子传播方向发生了倒转，故称为倒逆过程或U过程。U过程总波矢不守恒,但总能量守恒,因为声子频率是倒易点阵的周期函数，而q3与q1+q2只相差一个倒易点阵矢量。N过程在低温长波声子的散射问题中起主要作用。当温度升高，简约区边界附近的声子有较多激发时，U过程变得十分显著,它对点阵热导有重要贡献。
在能带电子与声子散射问题中存在着与式 (1)相仿的总波矢条件
k+G＝k┡±q，
(2)
式中k与k┡分别为散射前后电子的简约波矢,±号分别对应于吸收或发射q声子。类似的在热中子-声子散射以及晶体中一切波的相互作用过程中，总波矢变化都相差一个倒易点阵矢量G),因此也都有N与U过程之分。这是晶体和连续媒质不同之处，连续媒质对无穷小平移具有不变性，才能求得总波矢守恒，而晶体只具有对布喇菲点阵的平移不变性，因此总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条