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1)  important technique
重大技术
1.
Discussion on important techniques of sustainable development of small watershed comprehensive management;
小流域综合治理持续发展的重大技术问题
2)  significant technology innovation
重大技术创新
1.
The exploration of laws and analysis of types in which fundamental research lead to the significant technology innovations;
基础研究导致重大技术创新的类型与规律探讨
3)  major technological equipment
重大技术装备
1.
Research on proprietary innovation of major technological equipment in Liaoning Province;
辽宁重大技术装备自主化研究
4)  Telomeric repeat amplification protocol(TRAP)
端粒重复序列扩大技术
5)  Quantum advances in technology.
技术上重大的进展
6)  reconstruction technique
重构技术
补充资料:半导体工艺技术面临重大飞跃
Intel、摩托罗拉、IBM等公司与美国三个国家实验室昨日披露了超紫外线光刻技术的步进机(stepper)原型。

专家预估,EUV初步将投入0.07微米工艺的试产,未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域,甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。

ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称,由于部分研究人员早已预估,除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术,否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此,半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今,初步的开发成果即将公布,由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室,昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元,并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。

EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上,其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7~20%。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米,上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片,但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
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