1) Zirconium oxide film
氧化锆(ZrO2)薄膜
2) ZrO_2 film
氧化锆薄膜
1.
Characters of ZrO_2 films deposited by electron beam evaporation at different oxygen partial pressure;
不同氧分压下电子束蒸发氧化锆薄膜的特性
3) nano ZrO2 film
纳米氧化锆薄膜
4) Y_2O_3-doped ZrO_2 film
掺钇氧化锆薄膜
5) ZrO_2 thin films
二氧化锆薄膜
1.
In this paper,ZrO_2 thin films were deposited by electron beam evaporation,surface roughness of which were measured with Taylor Honson coherence correlation interferometer (Talysurf CCI).
本文采用电子束蒸发工艺, 利用泰勒霍普森相关相干表面轮廓粗糙度仪,研究了不同基底粗糙度、不同二氧化锆薄膜厚度以及不同的离子束辅助能量下所沉积的二氧化锆薄膜的表面粗糙度。
6) alumina-zirconia ceramic film
氧化铝-氧化锆陶瓷薄膜
补充资料：氧化锆-氧化钇红外陶瓷
分子式： ZrO2-Y2O3
CAS号：
性质：一种以二氧化锆为基体固溶6％～8％(mol)氧化钇的红外光学材料。立方晶结构。熔点2700℃。密度5.98g/cm3。红外透射波段1～10μm。采用1450℃以上高温烧结或1300～1700℃，50～300MPa热压制取。用于制造耐高温红外窗口和整流罩。
CAS号：
性质：一种以二氧化锆为基体固溶6％～8％(mol)氧化钇的红外光学材料。立方晶结构。熔点2700℃。密度5.98g/cm3。红外透射波段1～10μm。采用1450℃以上高温烧结或1300～1700℃，50～300MPa热压制取。用于制造耐高温红外窗口和整流罩。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条