1) contact angle hysteresis
接触角滞后现象
1.
Analysis of contact angle hysteresis on rough surfaces;
粗糙表面接触角滞后现象分析
2.
By employing the sessile drop method combining with CCD camera and the digital image technique, the contact angle hysteresis of the distilled water, the diethylene glycol and 1butyl alcohol on stainless steel flat surfaces was measured.
应用躺滴法结合CCD数字影像技术研究粗糙不锈钢表面上的接触角滞后现象。
2) contact angle hysteresis
接触角滞后
1.
The contact angle hysteresis of the solid surface was taken into account in the boundary conditions of the governing equations.
基于最小能量原理分析的竖壁沟流流动模型,认为当壁面为存在接触角滞后的非理想表面时,其控制方程的边界条件与滞后接触角有关,并分析了流量存在波动时沟流厚度的波动原因和范围。
3) Hystersis
滞后现象
1.
The phenomenon was refered to hystersis (its represent by hyste.
结果表明,坪台压力与热力学参数焓变ΔH,熵变ΔS随合金中Al含量的增加而降低,吸氢及放氢过程中的坪台压力存在一定的差异,即滞后现象(用滞后系数Hf表示)。
2.
The results of desorption indicated that the hystersis phenomena appeared during the desorption process,and the hystersis coefficient(H)of the herbicides in the 8 soils studied varied from 0.
670之间,解吸存在滞后现象。
4) hysteresis
[英][,histə'ri:sis] [美][,hɪstə'risɪs]
滞后现象
1.
The simulation model from East field was adjusted to account for permeability regions, rock wettability and capillary pressure hysteresis effects.
在不考虑自吸毛细管压力和滞后现象的情况下,采用饱和度端点比例将这些模拟结果与传统模拟方法进行比较。
2.
The measurement results showed that there exists hysteresis in the forward and backward curves.
测量数据显示,电阻温度曲线在温度上升和下降阶段存在滞后现象。
5) hysteresis phenomenon
滞后现象
1.
It is of great necessity to study on hysteresis phenomenon of soil-water characteristic curve(SWCC),for it plays an important role in observing engineering behavior of unsaturated soils.
首先对非饱和土土水特征曲线滞后现象的产生机理与影响因素进行了探讨,总结并分析了各类滞后模型的原理和优劣。
补充资料：接触电现象
两块不同金属A、B接触时，它们之间出现电位差的现象。这个电位差称为接触电位差。形成接触电位差的机理是：不同金属里自由电子势阱深度不同，自由电子密度也不相等，从而费密能级不一样。通常用逸出功表示把位于费密能级上的一个电子移到金属表面之外所需作的功；费密能级不同也就是逸出功不同。在两块不带电的金属相距很远的情况下，它们的费密能级EFA、逸出功═和势垒ψ等如图1a所示。逐渐移近时,它们的势场开始相互影响,中间势垒显著下降，如图1b所示。当移近到图1c所示的情形,势垒已降到金属A的费密能级E附近,这时A里的电子开始流入金属B，因为按照统计物理学, 电子将从费密能级高的地方向费密能级低的地方流动。但并无大量的电子从A流到B,因为当A失去电子时，它的电位将上升，从而其中电子的能级将下降；与此同时，B的电位将下降,其中电子的能级将上升。这样，只需要相当少的电子流过去，就可通过电位差使两块金属的费密能级拉平。到这时电子就不再流动；而两块金属A、B之间将出现一个电位差，其值为
式中 e是电子电荷的值。由上式可见两块金属中逸出功大的一个具有较低的电位。此电位差即接触电位差。表中列出了用光电效应法与热电发射法分别测出的一些金属的逸出功的值。利用此表即可求出其中任二种金属间的接触电位差以及哪一金属具有较低电势。
值得注意的是，金属A、B所带的电荷都分布在其表面上，金属内的电子密度不变，在两金属接触面上正负电荷形成一偶电层。两块金属的接触电位差实质上就是这偶电层产生的。
接触电效应在一些物理过程中起着重要作用。例如半导体与金属接触时所产生的接触电位差（或称肖脱基电位差）将在半导体表面附近形成一个阻挡层。图2中 E0为位于材料外表面电子的位能；Eσ为导带底部的能级；EV为价带顶部的能级;E、E分别为半导体和金属的费密能级,两种材料的逸出功之差是eV。接触时电子将从半导体流向金属,导致半导体中电子能级下降(相对金属),但由于N型半导体中自由电子的密度比金属小得多,半导体所能荷带的正电荷密度很有限，从而能级的下降将是逐渐的，正电荷分布在半导体表面的一个有限厚度(10-7～10-8米)的层内。这一层由于自由电子密度降到很小（耗尽层）而具有很高电阻。它对电流成为一个阻挡层。当外电压加在这种半导体－金属结上时，阻挡层的厚度发生变化，若N型半导体是在负电位,则阻挡层厚度将减小，反之阻挡层厚度将增加。这样，电流的大小就同电压的方向有关,从而显示出整流作用。类似地,当N型半导体与P型半导体接触时，接触电效应亦将在接触面两侧附近形成一个势垒区，这就是通常所谓的半导体的PN结。
式中 e是电子电荷的值。由上式可见两块金属中逸出功大的一个具有较低的电位。此电位差即接触电位差。表中列出了用光电效应法与热电发射法分别测出的一些金属的逸出功的值。利用此表即可求出其中任二种金属间的接触电位差以及哪一金属具有较低电势。
值得注意的是，金属A、B所带的电荷都分布在其表面上，金属内的电子密度不变，在两金属接触面上正负电荷形成一偶电层。两块金属的接触电位差实质上就是这偶电层产生的。
接触电效应在一些物理过程中起着重要作用。例如半导体与金属接触时所产生的接触电位差（或称肖脱基电位差）将在半导体表面附近形成一个阻挡层。图2中 E0为位于材料外表面电子的位能；Eσ为导带底部的能级；EV为价带顶部的能级;E、E分别为半导体和金属的费密能级,两种材料的逸出功之差是eV。接触时电子将从半导体流向金属,导致半导体中电子能级下降(相对金属),但由于N型半导体中自由电子的密度比金属小得多,半导体所能荷带的正电荷密度很有限，从而能级的下降将是逐渐的，正电荷分布在半导体表面的一个有限厚度(10-7～10-8米)的层内。这一层由于自由电子密度降到很小（耗尽层）而具有很高电阻。它对电流成为一个阻挡层。当外电压加在这种半导体－金属结上时，阻挡层的厚度发生变化，若N型半导体是在负电位,则阻挡层厚度将减小，反之阻挡层厚度将增加。这样，电流的大小就同电压的方向有关,从而显示出整流作用。类似地,当N型半导体与P型半导体接触时，接触电效应亦将在接触面两侧附近形成一个势垒区，这就是通常所谓的半导体的PN结。
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参考词条