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1)  electron cyclotron resonance plasma
电子回旋共振等离子体
1.
The radicals of CHF3,C6H6 and CHF3/C6H6 plasmas were measured by a quadruple mass spectrometer and an optical emission spectrometer in an electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition system.
在一个微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积系统中,测量了CHF3、C6H6及其混合气体放电的质谱和发射光谱图,分析了等离子体中主要基团的分布及其产生的途径,研究了放电功率和流量对主要基团密度的影响,以及它们与氟化非晶碳薄膜沉积速率和键结构之间的关联。
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2)  MWECR-CVD
微波电子回旋共振等离子体CVD
1.
Recent developments over the past decade in the preparation of a-Si∶H films are reviewed, with emphasis on a new means to increase the deposition rate by microwave electron cyclotron resonance-chemical vapor deposition (MWECR-CVD).
为提高a -Si∶H薄膜的沉积速度 ,还重点介绍了一种新的微波电子回旋共振等离子体CVD(MWECR -CVD)技术 。
3)  electron cyclotron resonance plasma(ECR)
电子回旋共振等离子体(ECR)
4)  Electron cyclotron resonance microwave plasma
电子回旋共振微波等离子体
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5)  ECR sputtering method
电子回旋共振微波等离子体溅射
6)  ECR(electron cyclotron resonance) plasma
电子回旋共振微波反应等离子体
补充资料：电子自旋共振(见电子回旋共振)


电子自旋共振(见电子回旋共振)
electron spin resonance

　　电子自旋共振eleetron spin resonanee见电子回旋共振。
　　
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