1) spin coating
旋涂工艺
1.
Two replicates of the 2 3 factorial design and analysis of variance methods were applied to the study of the film thickness and film uniformity which were influenced by polymer concentration, spin velocity and spin acceleration in process of spin coating.
采用两次重复的 2 3 析因实验设计 ,应用方差分析方法 ,研究了旋涂工艺中聚合物溶液的浓度 ,匀胶机的旋涂速度和加速度对旋涂的薄膜厚度和薄膜均匀性的影响 。
2) spinning
旋涂
1.
First SnCl2·2H2O and SbCl3 were dissolved with ethyl alcohol respectively,then nesa coatings were prepared with different ratio of Sb/Sn sols by different methods as such dipping-coating,spraying and spinning.
2H2O和SbCl3分别溶解于乙醇中,搅拌至完全溶解,以不同的Sb/Sb混合制备得到溶胶后,分别采用浸渍提拉、喷涂、旋涂工艺制备透明导电膜,并考察了不同制备工艺及热处理温度对膜的厚度、薄膜方块电阻以及对薄膜透光率的影响,运用XRD、SEM、TEM对所制备的透明导电膜进行了分析表征。
3) spin-coating
旋涂
1.
The influence of processing parameters in spin-coating was explored.
探索旋涂法制备工艺参数对薄膜结构的影响。
2.
The BaPbO3 thin films were deposited on aluminum oxide(Al2O3)substrates using the sol-gel method under spin-coating.
用溶胶-凝胶法在氧化铝(Al2O3)基片上旋涂成型BaPbO3薄膜。
3.
In this paper, the regression model of the polymer film-thickness spin-coating is established by using the least squares and the experimental data fitting with central composite design.
应用最小二乘法,通过对中心复合设计实验数据的拟合,建立了旋涂法制备聚合物薄膜的膜厚回归模型。
4) spin coating
旋涂
1.
Evolvement model of photoresist spin coating thickness on spherical surface;
球面旋涂光刻胶膜厚分布的数学模型
2.
Using polymethyl methacrylate(PMMA) as the structure material,spin coating and dry etching technique are used to realize a structure integration of optical waveguide integrated circuit with cantilever-mass micro-machine structure on silicon substrate.
以聚甲基丙烯酸甲酯为结构材料,采用旋涂和干法刻蚀技术,实现了光波导集成光路和悬臂梁-质量块微机械结构在硅基底上的集成。
3.
By orthogonal design tests and analysis of variance methods, the effects of polymer concentration, spin velocity, spin acceleration and spin time on the film thickness are studied in process of spin coating.
采用正交试验设计 ,应用方差分析方法 ,研究了旋涂工艺中聚合物溶液的浓度、匀胶机的旋涂速度和加速度以及旋涂时间对所制备的薄膜厚度的影响。
5) spin-coating technology
旋涂技术
1.
Nanometer scale TiO_2 films are prepared on glass substrates with film thickness less than 100nm by sol-gel process combining with spin-coating technology.
采用溶胶-凝胶法,利用旋涂技术在玻璃表面制备了膜厚小于100nm的纳米TiO_2薄膜,以去离子水和苯作为水和油模型,利用XRD、AFM系统研究了煅烧温度、粒径及膜厚对薄膜双亲性的影响。
2.
Nanometer scale TiO2 film was prepared on glass substrate with film thickness less than 100 nm,crystal size in the range of 10~30 nm by sol-gel process combining with spin-coating technology.
以玻璃为基底,采用溶胶-凝胶法,利用旋涂技术在玻璃表面制备了膜厚小于100 nm,粒径在10~30 nm之间的纳米TiO2薄膜;利用XRD,AFM系统研究了煅烧温度及膜厚对薄膜亲水性的影响。
6) spin-coating method
旋涂法
1.
Bilayered and monolayered TiO2-KTaO3 films have been fabricated by sol-gel spin-coating method and heated at deferent temperature for an hour.
通过溶胶凝胶法和旋涂法制备了单层和双层TiO2-KTaO3薄膜,并在不同的温度下退火1h,研究了该薄膜的湿敏传感特性。
参考词条
补充资料：左旋噻咪唑 , 盐酸左旋咪唑,左旋咪唑
药物名称：左旋四咪唑
英文名：Levamisole
别名： 驱蛔钩;盐酸左旋四咪唑;左咪唑;左旋驱虫净;左旋噻咪唑 , 盐酸左旋咪唑,左旋咪唑
外文名：Levamisole ,Levasole , LMS , L-Tetramisole, Nemicide
药理作用： 能抑制虫体肌肉琥珀酸脱氢酶的活动，使肌肉发生持续性收缩而麻痹。
适应症：
是一种广谱驱肠虫药，主要用于驱蛔虫及勾虫。 本品可提高病人对细菌及病毒感染的抵抗力。目前试用于肺癌、乳腺癌手术后或急性白血病、恶化淋巴瘤化疗后作为辅助治疗。此外，尚可用于自体免疫性疾病如类风湿关节炎、红斑性狼疮以及上感、小儿呼吸道感染、肝炎、菌痢、疮疖、脓肿等。对顽固性支气管哮喘经试用初步证明近期疗效显著。
用量用法：
1.驱蛔虫：成人每日１００～２００ｍｇ，饭后１小时顿服。儿童每日每千克体重２～３ｍｇ。 2.驱勾虫：每日１００～２００ｍｇ，饭后１小时顿服，连服２～３日。 3.治丝虫病：每日２００～３００ｍｇ，分２～３次饭后服，连服２～３日。 4.癌瘤的辅助治疗：１日量１５０～２５０ｍｇ，连服３日，休息１１日，然后再进行下１疗程。 5.治疗类风湿性关节炎等：每次５０ｍｇ，每日服２～３次，可连续服用。 6.治支气管哮喘：每服５０ｍｇ，１日３次，连服３日，停药７日，６个月为１疗程。
注意事项：
偶有头晕、恶心、呕吐、腹痛、食欲不振、发热、嗜睡、乏力、皮疹、发痒等不良反应，停药后能自行缓解。个别病人可有白细胞减少症、剥脱性皮炎及肝功损伤。妊娠早期、肝功能异常及肾功能减退的病人慎用，肝炎活动期忌用。
规格： 片剂：盐酸盐，每片含基质１５ｍｇ、２５ｍｇ、５０ｍｇ。
类别：免疫调节剂
英文名：Levamisole
别名： 驱蛔钩;盐酸左旋四咪唑;左咪唑;左旋驱虫净;左旋噻咪唑 , 盐酸左旋咪唑,左旋咪唑
外文名：Levamisole ,Levasole , LMS , L-Tetramisole, Nemicide
药理作用： 能抑制虫体肌肉琥珀酸脱氢酶的活动，使肌肉发生持续性收缩而麻痹。
适应症：
是一种广谱驱肠虫药，主要用于驱蛔虫及勾虫。 本品可提高病人对细菌及病毒感染的抵抗力。目前试用于肺癌、乳腺癌手术后或急性白血病、恶化淋巴瘤化疗后作为辅助治疗。此外，尚可用于自体免疫性疾病如类风湿关节炎、红斑性狼疮以及上感、小儿呼吸道感染、肝炎、菌痢、疮疖、脓肿等。对顽固性支气管哮喘经试用初步证明近期疗效显著。
用量用法：
1.驱蛔虫：成人每日１００～２００ｍｇ，饭后１小时顿服。儿童每日每千克体重２～３ｍｇ。 2.驱勾虫：每日１００～２００ｍｇ，饭后１小时顿服，连服２～３日。 3.治丝虫病：每日２００～３００ｍｇ，分２～３次饭后服，连服２～３日。 4.癌瘤的辅助治疗：１日量１５０～２５０ｍｇ，连服３日，休息１１日，然后再进行下１疗程。 5.治疗类风湿性关节炎等：每次５０ｍｇ，每日服２～３次，可连续服用。 6.治支气管哮喘：每服５０ｍｇ，１日３次，连服３日，停药７日，６个月为１疗程。
注意事项：
偶有头晕、恶心、呕吐、腹痛、食欲不振、发热、嗜睡、乏力、皮疹、发痒等不良反应，停药后能自行缓解。个别病人可有白细胞减少症、剥脱性皮炎及肝功损伤。妊娠早期、肝功能异常及肾功能减退的病人慎用，肝炎活动期忌用。
规格： 片剂：盐酸盐，每片含基质１５ｍｇ、２５ｍｇ、５０ｍｇ。
类别：免疫调节剂
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。