1) Pulsed laser deposition
脉冲激光溅射
1.
05+2 x +3 y fluoride films were prepared by pulsed laser deposition (PLD).
脉冲激光溅射法 (PLD) ,作为一种制备高质量薄膜的方法 ,被广泛地用于制备超导、铁电等薄膜。
2) pulsed laser deposition
脉冲激光溅射沉积
4) Pulsed sputtering
脉冲溅射
1.
Application of Pulsed Sputtering Technology in Aluminum Oxide Films Deposition;
脉冲溅射技术在氧化铝薄膜沉积中的应用
5) reactively pulsed laser ablation
反应式脉冲激光溅射沉积
1.
AlN (Aluminum Nitride) polycrystalline films have been deposited by reactively pulsed laser ablation with plasmaassisted at low temperature.
使用等离子体辅助反应式脉冲激光溅射沉积薄膜的方法在Ｓｉ（１１１）和Ｓｉ（１００）基片上已经成功地低温制备出ＡｌＮ多晶膜。
6) reactively pulsed laser sputtering deposition
反应式脉冲激光溅射淀积
1.
The effect of laser energy density,pulsed frequency on the construction and properties of AlN thin films prepared by reactively pulsed laser sputtering deposition was discussed.
就反应式脉冲激光溅射淀积制备氮化铝（ＡｌＮ）薄膜的过程，讨论了激光脉冲能量密度及脉冲频率对所制备薄膜结构性能的影响，并对薄膜的化学稳定性作了比较详细的研究。
补充资料：超短脉冲激光频率转换材料
超短脉冲激光频率转换材料
materials for ultrashort pulses laser frequency conversion
超短脉冲激光频率转换材料materials forultrashort Pulses laser frequeney eonversion用于脉冲宽度从微微秒直到几十毫微微秒激光的频率转换材料。超短脉冲激光具有短的脉宽，较好的模式特性以及高的峰值功率，从而具有很强的非线性性能。经频率转换后，短波的超短脉冲可产生强的光化学反应，是探索微观世界和超高速现象的极为有用的光源。此外，采用薄片倍频材料的超短脉冲倍频，可以作为超短脉冲脉宽测量的一种简便有效的方法，在技术上有实用价值。 对超短脉冲激光频率转换材料的性能主要有以下要求:①高的光损伤闭值。由于超短脉冲的高峰值功率，因而对材料的光损伤阑值提出高的要求，一般要大于GW/cmZ。②相位匹配特性。超短脉冲在空间的尺度短到毫米及几百微米量级，短脉冲波包在材料中以群速度传播。因而，除一般的相速度匹配外，还应满足群速度匹配才能获得较高的能量转换效率。对光学均匀材料，要求基频和倍频波的折射率色散小，才能获得较好的群速度匹配。对I类匹配，群速度要求稍低;对n类匹配要求太苛刻，很难应用。由于群速度失配存在，一般器件只取亚毫米的厚度。过长的光程于能量转换无补，反而引入脉宽的展宽以及能量的损耗。③透过波段。首先要求对参与频率转换的激光波长有高的透过率。对超短脉冲应用场合，材料应有更短的紫外吸收边。其原因是吸收边会增加材料的折射率色散;远离使用波长的吸收边，可使材料获得较好的群速度匹配。 钱激光超短脉冲频率转换的常用材料是磷酸二氢钾(KDP)类晶体。此外，新开发的三硼酸锉(LBO)晶体，由于其高的抗光损伤阑值、好的紫外透过率以及小的色散，也是好的超短脉冲频率转换用材料。有机晶体精氨酸磷酸盐(LAP)和氛化精氨酸磷酸盐(D一LAP)也可用作超短脉冲频率转换用材料。 (邵宗书)
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条