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1)  CVD diamond films
化学气相沉积金刚石薄膜
2)  chemical vapor deposited(CVD) diamond film
化学气相沉积(CVD)金刚石膜
3)  diamond films (DF)
金刚石沉积膜
4)  diamond-like carbon films (DLC)
类金刚石沉积膜
5)  diamond films deposition
金刚石膜沉积
6)  film vapor deposition
薄膜气相沉积
补充资料:等离子化学气相沉积
分子式:
CAS号:

性质:PCVD  化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料,尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD,可在较低的温度下沉积,涂层均匀不剥落。

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