1) Negative ion source
负离子源
2) H-cusp source
负氢离子源
1.
The article introduces the design and machining of the H-cusp source applied to the high intensity proton beam cyclotron.
文章介绍了一种运用于强流质子回旋加速器上的多峰场负氢离子源的设计与加工情况,该离子源主要是通过深入研究高密度等离子体产生技术、长寿命大直流灯丝电子发射技术、磁约束技术、虚拟过虑技术、残留气体与电子剥离的控制技术,以及离子引出技术等,在中国原子能科学研究院原有10mA离子源基础上建立负氢离子源,实验研究低能、强流束的实验匹配与调试技术,将平均引出束流提高到15—20mA。
4) Cs sputtering negative ion source
铯负离子溅射源
1.
Carbon cluster ion beams were extractrd from a Cs sputtering negative ion source with a graphite sputtering cathode.
利用铯负离子溅射源（ＳＮＩＣＳ－Ⅱ）和石墨阴极产生并引出了碳团簇负离子流，观察到了一些电子亲和势很小的团簇。
5) negative ion chemical ionization(NICI)
负化学离子源(NICI)
6) SNICS-source of negative ions by cesium sputtering
铯溅射型负离子源
补充资料：1,3-负离子环加成
分子式：
CAS号：
性质：由烯丙基负离子参与的2+3环加成反应。
CAS号：
性质：由烯丙基负离子参与的2+3环加成反应。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条