1) film size
薄膜面积
1.
Two important parameters in the process of laser induced plasma chemical vapor deposition film size and deposition rate are deduced with shock wave theory The influence of laser intensity,atmosphere and pedestal temperature on the deposition process is analyse
用激波理论推出了激光诱导等离子体化学气相淀积过程中两个重要参量薄膜面积、膜淀积速率的表达式。
2) Large area thin film
大面积薄膜
3) Large area YBCO thin film
大面积YBCO薄膜
5) thin film deposition
薄膜沉积
1.
Fresnel lens fabricated by thin film deposition;
薄膜沉积法制作菲涅耳透镜
2.
A novel technique-anodic vacuum arc coating for thin film deposition is reviewed in this paper.
本文介绍了一种新的薄膜沉积方法──阳极真空电弧镀膜法。
3.
The 16-step Fresnel lens had been fabricated by thin film deposition and ion beam etching and it has been used in refractive-diffractive CCD camera.
使用薄膜沉积法和离子束刻蚀法制作１６阶菲涅耳透镜，应用于折衍混合ＣＣＤ相机。
6) film deposition
薄膜沉积
补充资料：比表面积
分子式：
CAS号：
性质：单位体积或单位质量固体的表面积，通常用1g固体的总表面积表示。由于制备条件的不同，固体与气相接触的表面大小可有很大差异。多孔性和细碎性固体的表面积包括内表面和外表面，内表面由其内部孔隙和裂缝缝隙面积构成，外表面是固体外部的几何面积，二者之和为总表面积。比表面通常用物理吸附法测定，如BET容量法、重量法、流动色谱法等。有时也可用液相吸附法测定。对比表面大于1m2/g的样品常用低温氮吸附容量法或流动法，而小表面则用低温氪吸附法。对于非孔性固体，也可根据测出的粒子大小计算比表面。
CAS号：
性质：单位体积或单位质量固体的表面积，通常用1g固体的总表面积表示。由于制备条件的不同，固体与气相接触的表面大小可有很大差异。多孔性和细碎性固体的表面积包括内表面和外表面，内表面由其内部孔隙和裂缝缝隙面积构成，外表面是固体外部的几何面积，二者之和为总表面积。比表面通常用物理吸附法测定，如BET容量法、重量法、流动色谱法等。有时也可用液相吸附法测定。对比表面大于1m2/g的样品常用低温氮吸附容量法或流动法，而小表面则用低温氪吸附法。对于非孔性固体，也可根据测出的粒子大小计算比表面。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条