1) scoring errors
刻划误差
2) Measure of graduation errors
刻划误差检测
3) overlay error
套刻误差
1.
In order to meet the demand of coma measurement accuracy of lithographic tool projection lens,a novel method for measuring coma based on fine overlay error metrology marks is proposed.
为了满足光刻机投影物镜彗差测量精度的要求,提出一种基于套刻误差测试标记的彗差检测技术,分析了彗差对套刻误差测试标记空间像的影响,详细叙述了该技术的测量原理,并利用PROLITH光刻仿真软件对不同数值孔径与部分相干因子设置下套刻误差相对于彗差的灵敏度系数进行了仿真实验。
6) scale-factor error
刻度尺误差
1.
Detector noise and scale-factor errors exist in all of photoelectric equipments,especially in guided munitions which use strap-down detectors and integral form of proportional navigation law,the effects of noise and scale-factor are part of the reasons for miss distance.
在任何光电测量设备中都存在噪声和刻度尺误差,尤其对于采用捷联探测器积分比例导引制导方式的制导弹药系统,噪声和刻度尺误差是影响系统性能的两个重要因素。
补充资料：过度刻划
分子式：
CAS号：
性质： 用切割工具刻划时，超过了图形的边界。
CAS号：
性质： 用切割工具刻划时，超过了图形的边界。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条