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1)  described theorem
刻划定理
1.
The described theorem of inverse matrix of random martix and its application;
任意矩阵的逆矩阵的刻划定理及其应用
2)  characterizing theorem
刻画定理
3)  characterization [英][,kærəktəraɪ'zeɪʃn]  [美]['kærəktəraɪ'zeʃən]
刻划
1.
A kind of Equivalent Characterization of Bloch Type Space;
Bloch型空间的一种等价刻划(英文)
2.
New characterizations of metrizerble space in terms of g-fuctions;
度量空间的g-函数新刻划
4)  score [英][skɔ:]  [美][skɔr, skor]
刻划
5)  frame characterizing theorem
框架刻画定理
6)  mechanical modification
机械划刻
1.
Two different techniques to fabricate nano scale reference materials are investigated in detail: AFM tip induced local surface oxidation on Si substrate and mechanical modification of Au film with an AFM tip.
提出了两种制备纳米结构样板的方法 :Si基底上的原子力显微镜 (AFM )探针诱导阳极氧化工艺和Au膜上的AFM探针机械划刻工艺 。
补充资料:函数逼近,正定理和逆定理


函数逼近,正定理和逆定理
approximation of functions, direct and inverse theorems

  函数逼近,正定理和逆定理〔叩p川心m丽皿of加n比拙,山比Ct and inve瑰the.陀ms;.聊痴叫的日.此中加.欲浦、娜旧M“el.倾阵I‘eT印碑袖I」 描述被逼近函数的差分微分性质与各种方法产生的逼近误差量(及其特征)之间关系的定理和不等式.正定理借助于函数f的光滑性质(具有给定的各阶导数,f或其某些导数的连续模等),给出f的逼近误差估计.利用多项式进行最佳逼近时,Jaekson型定理及其多种推广均是众所周知的正定理,见J以滋s佣不等式(J ackson inequality)和Ja改涨扣定理(Jackson theo-化m).逆定理则是根据最佳逼近或任何其他类型逼近的误差趋于零的速度来刻画函数的微分差分性质.5.N.Bernste几首次提出并在某些场合下解决了函数逼近中的逆定理问题,见[21,比较正逆定理,有时就可以利用,例如,最佳逼近序列来完全刻画具有某种光滑性质的函数类. 周期情形下正逆定理之间的关系最为明显.令C为整个实轴上周期为2二的连续函数空间,其范数定义为}}训:m。‘加川. 趁、 石(户7丁),nf}{厂甲1}、 价任了。为至多。次的允多项J处J’‘“间l对矛中函数f的最不}遍近,。仃一川记二厂的连续模,产r(产一12一)是若;,,I率个实轴上·次连续。f微的函数集‘户,二矛);卜定理f山。‘c、,the(〕re,1”J片出如果.了。厂、则 M{_‘l 从“,,蕊奋一“甲’、万 月l、2、、厂幼,!_.少川1常数M,。。一。又.「JJ以构造矛。‘;矛中函数八,)相关的多项式序列织(_人t):不使得对产三乙,(l)的右端.叮作为误差卜厂一仁〔户一的}界,这是较(I)更强的结果.1兰定理(,n、。r、。the‘)rem)指日:对,。矛勿J果 可。,、M了岁E“,;;),。、二 月二】(其,「,阿是绝对常数l}了司是l厂户的整数部分)日一对某个i「一整数r‘级数 艺。r一’E以讯一1) 月二1收敛.则可推得了‘〔’‘类似戈2)田(/、),l/。
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参考词条