1) multi-exposure
多次曝光
1.
The shifted position of fringes for multi-exposure is analyzed.
分析了ＰＩＶ采样底片多次曝光时粒子衍射调制作用对干涉条纹位置的影响，推导出条纹偏移量与曝光次数和粒子相对位移量的关系。
2.
Through multi-exposure to design the production of chirped fiber Bragg grating method,this method has been developed chirp fiber grating delay larger than 2600ps,delay ripple is less than 30ps,the fiber grating reflection spectrum of small flatness 0.
使用多次曝光制作啁啾布拉格光纤光栅的方法,通过此种方法,目前已研制出啁啾光纤光栅的时延量大于2600ps,时延纹波小于30ps,光纤光栅反射谱的平坦度小于0。
2) multiple exposure
多次曝光
1.
Many approaches have been applied to increase the d yn amic range of CMOS active pixel image sensors,such as logarithmic pixel,lateral flow over gate pixel,multiple exposure,local shutter etc.
CMOS有源像素图像传感器动态范围的扩展可采用各种技术,如对数像素结构、横向溢出栅像素结构、多次曝光技术、局部曝光技术等,其中多次曝光技术在可获得大动态范围图像的同时,信噪比(SNR)较高。
3) Multiple-exposure holography
多次曝光全息术
4) multiple exposure technique
多次曝光技术
5) multiple-exposure hologram
多次曝光全息图
6) Second exposure
二次曝光
1.
s:This paper intruduces a method of determination of matter refractive index from the speckle patten obtained by second exposure.
介绍了一种根据利用二次曝光技术获得的斑纹图样的光学特性测物质折射率的方法。
补充资料：多次曝光
利用照相机在同一张感光片上进行两次或两次以上的曝光。常用于夜景摄影和建筑工程摄影。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条