1) describers/electronics design
描述器/电子设计
2) electronic device description
电子设备描述
3) design description
设计描述
1.
The analysis phase uses reverse engineering to recover the sequential design description.
它分为 3个阶段 :分析阶段获取串行系统的设计描述 ,综合阶段根据分析阶段获得的设计描述生成程序相关图 ,转换阶段根据分析阶段与综合阶段的结果得出原系统的并行设计描述 。
4) SSDD System/Subsystem Design Description
系统/子系统设计描述
6) Electronic Device Description Language(EDDL)
电子设备描述语言
1.
Two kinds of mainstream Device Description(DD) technology,Electronic Device Description Language(EDDL) and Field Device Tool(FDT)/Device Type Manager(DTM),which both provide standardized and unified methods for describing fieldbus devices are presented.
介绍两种主流设备描述技术:电子设备描述语言(EDDL)和现场设备工具/设备类型管理器(FDT/DTM),目的都在于为现场总线设备的描述提供一个规范统一的方法。
补充资料：正电子放射层描述
正电子放射层描述
position emission tomography
正电子放射层描述(position emissiontomography)探查受试者发生心理活动时脑内特定部位物质代谢状况的一种研究技术。一般是给受试者注射可放射正电子而又能被神经细胞吸收的物质，如2一脱氧葡萄糖，然后将受试者的头置于正电子放射检测器中，一个平面一个平面地扫描。电子计算机处理扫描的结果，并显示平面断层图。由此可以看到注射的放射物在脑内各区被吸收的多少。与计算轴断层摄像术(参见该条)一样，它也是一种随着电脑发展而出现的在微机水平上研究脑与心理关系的新技术。 (杨立能撰梁宝勇审)
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条