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1)  high k dielectric film
高k薄膜
2)  High-k dielectric films
高k电介质薄膜
1.
research of High-k dielectric films for MOS gate dielectric applications;b.
本文第一部分以溅射沉积SiO_xN_y、TiO_2等高k电介质薄膜为研究主题,研究了溅射工艺对薄膜成分、结构的影响;并以MOS电容栅介质为应用背景,对薄膜电学性能进行了讨论。
3)  K(TCNQ) thin film
K(TCNQ)薄膜
4)  low-k film
low-k薄膜
5)  SiCOH low dielectric constant films
SiCOH低k薄膜
6)  K(Ta,Nb)O_3 thin film
K(Ta,Nb)O_3薄膜
补充资料:冲击高电压测量(见高电压测量)


冲击高电压测量(见高电压测量)
measurement of high impulse voltages

  ch。门引才g。。dion丫日cel}o口g冲击高电压测量(rneasurement ofhighimpulsevoltages)见高电压测量。
  
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参考词条