1) overlay
[英][,əʊvə'leɪ] [美][,ovɚ'le]
套刻
1.
This new file format solves the problem of overlay and provides the property for proximity effect correction.
0开发环境实现了EDF格式文件的图形创建、结构体引用以及文件保存,同时增加了多层图形套刻和邻近效应修正数据处理的功能。
2) mask etching
掩模套刻
3) overlay error
套刻误差
1.
In order to meet the demand of coma measurement accuracy of lithographic tool projection lens,a novel method for measuring coma based on fine overlay error metrology marks is proposed.
为了满足光刻机投影物镜彗差测量精度的要求,提出一种基于套刻误差测试标记的彗差检测技术,分析了彗差对套刻误差测试标记空间像的影响,详细叙述了该技术的测量原理,并利用PROLITH光刻仿真软件对不同数值孔径与部分相干因子设置下套刻误差相对于彗差的灵敏度系数进行了仿真实验。
4) overlay performance
套刻性能
1.
Overlay is one of key performances for modern lithographic projection systems with high-precision, a novel method for in-situ measuring the overlay performance of a lithographic system with the marks is presented.
套刻性能是现代高精度步进扫描投影光刻机的重要性能指标之一。
5) Overlay control
套刻控制
6) Overlay targets
套刻标记
补充资料：套刻重合
分子式：
CAS号：
性质：晶片上每一点定义的矢量，这是基片几何图形的矢量位置和套刻图形(可以由光致抗蚀剂组成)相应点矢量位置之间的差称作。= 。
CAS号：
性质：晶片上每一点定义的矢量，这是基片几何图形的矢量位置和套刻图形(可以由光致抗蚀剂组成)相应点矢量位置之间的差称作。= 。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条