1) chrome-copper-chrome film electric pole
铬铜铬薄膜电极
2) Cr-Cu-N film
铬-铜-氮薄膜
1.
Cr-Cu-N films were deposited using low energy ion beam assisted magnetron sputtering (IBAMS).
应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响。
3) Cr/Cu functionally graded thin films
铬/铜梯度薄膜
4) NiCr thin-film resistor
镍铬薄膜电阻
1.
5 k? NiCr thin-film resistors was measured.
5k?镍铬薄膜电阻器分别在生产完成和1000h老化试验之后进行了低频噪声测量和分析得到器件低频噪声特征,结合电子元器件低频噪声理论探讨了器件中各种噪声成分的来源及产生机制并给出该镍铬薄膜电阻生产线降低噪声的工艺手段。
5) Cr-Si thin film resistor
铬硅电阻薄膜
补充资料：重铬酸铜
[氧化剂和有机过氧化物]二级氧化剂
重铬酸铜
[英]cupric dichromate
[缩]zgst
【化学结构】
cucr2o7.h2o
【化学特性】
相对分子质量: 315.59 .黑色结晶。有潮解性。易溶于水。遇热水分解。能溶于氢氧化铵及醇。 相对密度: 2.283 熔点: 100℃(失去二个结晶水) .
【火灾危险】
与有机物, 还原剂及易燃物如硫、磷等混合, 有成为爆炸性混合物的危险。本品有毒和腐蚀性。
【处置方法】
水、砂土、二氧化碳。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条