1) doping efficiency in barrier
势垒层掺杂效率
2) doping efficiency
掺杂效率
1.
A new method to analyze the phosphours-doping efficiency was proposed.
介绍一种分析ａ－Ｓｉ掺杂效率的新方法。
2.
By measuring the annealing temperature and annealing time dependences of the dark conductivities of doped a-Si : H and a-SiC : H films, we have investigated the infiuences of annealing temperature on the doping efficiency and on the reactivation process of the dopant.
本文通过测量掺杂ａ－Ｓｉ：Ｈ和ａ－Ｓｉｃ：Ｈ薄膜的电导率随退火温度和退火时间变化研究了温度对掺杂效率的影响以及杂质激活的微观过程。
3) HBE
势垒效应
1.
Based on the known model of the base transit time of SiGe HBT, the effect of heterojunction barrier effects(HBE) on the base transit time is considered and calculated.
在已有的SiGe HBT基区渡越时间模型的基础上,考虑了势垒效应对其产生的影响以及与基区Ge分布的关系。
2.
Moreover,small Ge fraction grading can t alleviate the HBE effectively,and Ge introduced into the collector can delay the HBE.
讨论了基区Ge分布、集电极电流密度对势垒高度的影响,分析了减弱势垒效应的方法。
4) the modified potential barrier
有效势垒
5) equivalent barrier
等效势垒
1.
In this paper, the definition and property of equivalent barrier are given.
本文给出等效势垒的概念及性质，利用等效势垒的性质可以使量子隧穿中的 有关问题更容易解决。
6) barrier layer
势垒层
1.
This indicates the presence of the surface states on the surface of the barrier layer.
通过测量调制掺杂Al0 2 2 Ga0 78N/GaN异质结样品的变频电容 电压 (C V)特性 ,对Al0 2 2 Ga0 78N势垒层表面态的性质进行了研究 。
2.
Efficient ZnS:Er alternating current thin film electroluminescent devices(ACTFELDs) have been fabricated based on the mechanism that the energy gain and excitation efficiency of charge carriers can be increased by means of barrier layer tunnelling along with the modification of the conventional structure.
对掺饵硫化锌交流电致发光薄膜器件 (ACTFELD) ,根据载流子隧穿势垒层会获得能量增益 ,提高激发效率的原理 ,通过改变常规ZnS :ErACTFELD的基本结构 ,研制出多阻挡层器件。
补充资料：pn结势垒（barrierofp-njunction）
pn结势垒（barrierofp-njunction）
pn结的空间电荷区中，存在由n边指向p边的自建电场。因此，自然形成n区高于p区的电势差Vd。相应的电子势能之差即能带的弯曲量qVd称为pn结的势垒高度。pn结的p区和n区的多数载流子运动时必须越过势垒才能到达对方区域，载流子的能量低于势垒高度，就被势垒阻挡而不能前进，这个垫垒叫做pn结势垒。pn结的势垒高度与两边半导体中的杂质浓度及其分布、温度以及半导体材料的禁带宽度Eg有关。除pn结势垒外，还有金属与半导体接触的接触势垒（肖特基势垒）、半导体表面形成的表面势垒等。势垒高度受外加电场的影响，当外加电场削弱势垒区中电场时，势垒降低，载流子容易通过；外加电场加强势垒区的电场时，势垒高度升高，载流子不易通过。利用pn结势垒这一特性可制成整流、检波等多种半导体器件。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条