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1)  Relative Offsets
相对偏移
2)  relative clock offset
相对时钟偏移
3)  Relative beam angular placement
相对角度偏移
4)  relative transverse shift
相对横向偏移
5)  relative angular shift
相对角向偏移
6)  Relative Spectra shift
谱线相对偏移
补充资料:创建偏移剖面

要创建偏移剖面,必须通过在“草绘器”中进行草绘以定义切口轮廓。然后,垂直于草绘平面投影此轮廓。单击 “视图”(View)>“视图管理器”(View Manager)。“视图管理器”(View Manager) 对话框打开。单击“剖截面”(Xsec)。单击“新建”(New)。出现一个缺省的剖面名称。按 ENTER 键。“剖截面创建”(XSEC CREATE) 菜单打开。单击“偏移”(Offset)>“一侧”(One Side)“双侧”(Both Sides)>“完成”(Done)“选取”(SELECT) 对话框打开。选取草绘平面,并定义查看方向和草绘方向。进入“草绘器”。选取用于尺寸标注的参照图元。草绘剖面轮廓并单击 退出“草绘器”。 在“视图管理器”(View Manager) 中,单击“显示”(Display)>“设置可见性”(Set Visible)“可见性”(Visibility) 对话框打开。单击“显示剖面线”(Show X-Hatching) 查看剖面。单击 预览或单击 接受选取的选项。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条