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1)  zinc oxide ceramic target
氧化锌陶瓷靶材
2)  ZnO ceramics
氧化锌陶瓷
3)  ceramic target
陶瓷靶材
1.
The effect of main parameters of HIP technique on the densification of ITO ceramic target was investigated.
实验研究了热等静压工艺参数──保温温度、保压压力和保温时间对 ITO陶瓷靶材致密化的影响。
2.
Aluminum-doped zinc oxide (ZAO) ceramic targets for sputtering were fabricated by hot isostatic pressing (HIP) and ZAO transparent conducting thin films were prepared by dc magnetron sputtering.
用热等静压法烧结制备了高导电性ZAO(铝掺杂氧化锌)陶瓷靶材,并用直流磁控溅射法制备出ZAO透明导电薄膜。
4)  zinc oxide varistor ceramic
氧化锌压敏陶瓷
5)  pure ZnO ceramic
纯氧化锌陶瓷
1.
Analyzed were the characteristics of interface of both ZnO varistor and pure ZnO ceramic by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).
采用X射线光电子能谱(XPS)对比分析纯氧化锌陶瓷和氧化锌压敏电阻的界面特性。
6)  nano ZnO ceramic
纳米氧化锌陶瓷
补充资料:氧化锌陶瓷
分子式:
CAS号:

性质:氧化锌(ZnO)为主晶相加入适当的掺杂物等制成的一类半导体陶瓷材料。具有优良的非线性系数、压敏电压范围宽(零点几伏到几十千伏)、电压温度系数小、时间响应快、漏电流小等特点。主要原料为氧化锌,掺杂物有氧化铋、氧化钴、氧化锶、氧化钛等。采用一般电子陶瓷工艺制造。可用于制造高压电路中稳压元件和过电压保护元件(如集成电路中的低压压敏电阻器),还可作避雷器之用。

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