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1)  Film Damage by Ashing Plasma
等离子体引起的低介电薄膜损伤
2)  plasma charging damage
等离子体充电损伤
3)  plasma damage
等离子体损伤
1.
The mechanism of charging damage, edge damage and electron shading effect in the mass have been studied and finally several methods for reducing plasma damage are give
文中主要讨论了等离子体工艺引起的充电损伤、边缘损伤和表面不平坦引起的电子遮蔽效应的主要机理 ,并在此基础上讨论了减小等离子体损伤的有效方法。
4)  neutron induced damage
中子引起的损伤;中子引起损伤
5)  plasma foil
等离子体薄膜
1.
The high order harmonic emission from thin plasma foils irradiated by two circular polarized, counter propagating laser pulses with their electrical vectors rotating in different direction was investigated via 1\|D particle in cell (PIC) simulations, More than 200 harmonics can be generated with the laser intensity of 10 21 W/cm 2.
通过一维粒子 (particleincell,简称PIC)模拟 ,研究了超薄等离子体薄膜在两列旋转方向相反的圆偏振激光脉冲作用下的高次谐波辐射。
6)  plasma polymerized thin film
等离子体合薄膜
补充资料:填充离子交换树脂的电渗析器、电渗析填充床等
分子式:
CAS号:

性质:又称填充离子交换树脂的电渗析器、电渗析填充床等。这是将离子交换树脂充填入电渗析器隔室中,将电渗析与离子交换树脂结合一起的一种脱盐方法。这种装置可以提高脱盐室的电导,并能有效地防止极化沉淀以制备高纯水。但其结构比较复杂,拆装不便。其工作原理为:将H+,OH-型阳、阴树脂予混后填充入电渗析器脱盐室。在直流电场作用下,阴、阳树脂与溶液中的阴、阳离子进行交换。之后,由于电解再生,树脂分别又转为H+,OH-型,解吸的阴、阳离子分别通过阴、阳膜进入浓缩隔室。

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