1) Projection imaging photolithography
投影成像光刻系统
2) scattering with angular limitation in projection electron lithography(SCALPEL)
限角电子束散射投影成像光刻技术(SCALPEL)
3) Projection lithography
投影光刻
1.
Soft X-ray projection lithography technology;
软X射线投影光刻技术及其发展
2.
Design of diffractive optical elements for off-axis illumination in projection lithography;
投影光刻离轴照明用衍射光学元件设计
3.
Soft X-ray projection lithography is expected as a candidate for VLSI p roduction in the near future.
软 X射线投影光刻作为特征线宽小于 0 。
4) laser projection imaging(LPI)
激光投影成像
1.
Key technical parameters for the laser projection system and the laser illumination system in the laser projection imaging(LPI) equipment used for printed circuit board(PCB) are analyzed.
对用于印制电路板(PCB)工业化生产的激光投影成像装置中的激光投影系统和激光照明系统的关键技术参数进行了分析,在对装置整体性能设计要求下,理论推导和分析了符合实际场景的关键技术参数,包括分辨率、焦深、物镜结构、激光光源、照明相干度、像素密度和曝光时间,得到了相关的具有一定参考价值的结论。
2.
Key technical parameters for the laser projection system and the laser illumination system in the laser projection imaging(LPI)equipment used for flat-panel displays and other optoelectronic and microelectronic products requiring micron-level patterning are analyzed,and introduce 248 nm ultraviolet-laser as system laser source.
对用于需要微米级线宽的平板显示器件、光电子与微电子产品等工业化生产中的激光投影成像(LPI)装置中的激光投影系统和激光照明系统的关键技术参数进行了分析。
5) raster projection imaging
光栅投影成像
1.
In raster projection imaging and 3D object reconstruction,due to the shadow and the ununiformity of illumination,high quality of image segmentation cannot be achieved using traditional binarization.
在光栅投影成像三维物体表面重建中,由于阴影和光照不均匀的影响,采用传统的时域二值分割方法,难以得到高质量的分割图象。
2.
In this paper, the principles of raster projection imaging and 3D object reconstruction are introduced firstly.
光栅投影成像是3维物体重建和测量的重要技术。
6) image projection system
图像投影系统
补充资料：投影光刻
分子式：
CAS号：
性质：一种把图像投影在光敏材料上的方法。它可免于光学掩模版和光敏材料涂层的接触。
CAS号：
性质：一种把图像投影在光敏材料上的方法。它可免于光学掩模版和光敏材料涂层的接触。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条