1) alignment mark
对准标记
1.
The principle of bottom side alignment,the stage structure and the selection of the shape and size of the alignment mark are discussed.
主要论述了底面对准光刻机的对准原理、工件台结构以及对准标记的形式和尺寸的选
2.
In this thesis, the principal and feature of several phase grating alignment systems are introduced firstly; Alignment signal of phase grating alignment mark and the factors of influece of alignment signal are analysed secondly; This paper studies and compares three main factors which affect the diffractive error of alignment mark thirdly; At last, by .
本论文首先介绍了各种相位光栅对准系统的原理和特点;接着阐述对准信号以及系统中影响对准信号的因素;其次分析影响相位光栅对准标记衍射效率的主要因素槽深、占空比和反射率;最后通过建立相位光栅对准标记非对称变形的计算模型,分析标记的各级衍射效率和对准误差;并把本文所得结果与仿真软件结果进行比较,两者得到了很好的吻合。
2) standard label(SL)
标准标记
3) focus calibration using alignment procedures mark
焦面检测对准标记
4) software of alignment simulation
标记对准模拟软件
5) Alignment Marking On Housing
机座中的对准标记
6) alignment mark
对准记号
补充资料：Alignment对准
1. 定义：利用芯片上的对准键，一般用十字键和光罩上的对准键合对为之。2. 目的：在ic的制造过程中，必须经过6~10次左右的对准、曝光来定义电路图案，对准就是要将层层图案精确地定义显像在芯片上面。3. 方法：a.人眼对准b.用光、电组合代替人眼，即机械式对准。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条