1) inductively coupled plasma with multi-sources
多源感应耦合等离子体
3) Induced coupled plasma(ICP)
感应耦合等离子体源(ICP)
4) inductively coupled microplasma jet
微感应耦合等离子体射流源
6) inductively coupled plasma
感应耦合等离子体
1.
Selective etching of GaN/ AlGaN by Inductively coupled plasma;
感应耦合等离子体选择性刻蚀GaN/AlGaN
2.
We attempt to investigate the influence of the processing chamber configuration of an inductively coupled plasma(ICP)etcher on flow field characteristics.
为研究感应耦合等离子体(ICP)刻蚀机工艺腔室结构对流场特性的影响,采用回归正交设计方法对腔室半径、腔室高度、进气口半径以及进气流量4个设计参数进行试验设计,利用商业软件CFD-ACE+建立ICP刻蚀机工艺腔室二维流场仿真模型。
3.
Inductively coupled plasma(ICP) dry etching of InP was performed using Cl2/CH4/N2.
采用Cl2/CH4/N2感应耦合等离子体对InP进行了刻蚀。
补充资料：感应耦合等离子质谱分析
感应耦合等离子质谱分析
induction coupling plasma mass spectrum analysis
滤质器，以及把它们连接起来的接口构成。分析时把被分析物引入等离子炬，在高温下电离。产生的离子经接口进入滤质器。滤质器仅允许具有确定质量电荷比的离子通过，并到达检测器产生电信号。改变滤质器的工作参数，即可以依次使具不同质荷比的离子产生信号序列即质谱。信号的强度与相应元素在被分析物中的含量成正比。这是进行化学成分分析的基础。 感应祸合等离子质谱集感应祸合等离子发射光谱和质谱的优点于一身，其特点是灵敏度高、线性范围宽、多元素分析、谱简单干扰少、分析速度快，可做同位素分析，是化学成分分析的有力手段。它开始出现于1980年，已在地质、环保、冶金、建材等领域得到广泛应用。(张洪度)感应藕合等离子质谱分析induction气且.尔釜) couPlingplasma masss伴etrum analysis利用发射光谱的感应祸合等离子炬(见发射光谙)作为质谱分析的离子源而把质谱仪用于化学成分分析的一种技术。仪器主要由工作在大气压下的氢气等离子炬和工作在高真空下的四极
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条