1) significant technology innovation
重大技术创新
1.
The exploration of laws and analysis of types in which fundamental research lead to the significant technology innovations;
基础研究导致重大技术创新的类型与规律探讨
2) technical innovation
技术创新
1.
Study on assessment of technical innovation ability for coal enterprise;
煤炭企业技术创新能力评价研究
2.
Study of technical innovation model of China's petroleum enterprises,taking one oil production plant of North China Oilfield Company as an example;
我国石油企业技术创新模式的实证研究——以中国石油华北油田分公司采油某厂为例
3.
Strengthen technical modification promote technical innovation;
加强技术改造 促进技术创新
3) Technological innovation
技术创新
1.
Economic evaluation on technological innovation of mining enterprise;
矿山企业技术创新经济评价
2.
Technological innovation in biotechnology industry:The Chinese cases;
关于中国生物产业技术创新战略的几点思考
3.
The role of technological innovation in sustainable development of mining enterprice;
技术创新在矿山企业可持续发展中的作用
4) technology innovation
技术创新
1.
Technology Innovation — Internal Motive Power for Development and Expansion of Enterprise;
技术创新是企业发展壮大的内在动力
2.
Impacts of environmental policies on environmental technology innovation;
环境政策对环境技术创新的影响
3.
The research about technology innovation achievement spread of construction enterprise;
我国建筑业企业技术创新成果扩散研究
5) technique innovation
技术创新
1.
Enterprise s technique innovation and human resources opening up;
企业的技术创新与人力资源开发
2.
Cooperative innovation is Fresh tendency oftechnique innovation of firm;
企业技术创新的新趋势——合作创新
3.
The Synthetically Benefit Appraise of Automated Goods Flow System Technique Innovation;
自动化物流系统技术创新的综合效益评价
6) innovative technology
创新技术
1.
It shows that innovative technology is conducive to decreasing labour demands.
研究表明 ,创新技术的采用有利于减少劳动力需
2.
Open and cooperative international environment has provided a good protection for the innovative technology and the global spread of the industrialization.
开放、合作的国际化环境为创新技术的全球性传播及产业化的全球性推进提供了良好的保障。
补充资料：半导体工艺技术面临重大飞跃
Intel、摩托罗拉、IBM等公司与美国三个国家实验室昨日披露了超紫外线光刻技术的步进机（stepper）原型。
专家预估，EUV初步将投入0.07微米工艺的试产，未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域，甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称，由于部分研究人员早已预估，除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术，否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此，半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今，初步的开发成果即将公布，由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室，昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元，并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上，其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7～20％。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米，上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片，但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
专家预估，EUV初步将投入0.07微米工艺的试产，未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域，甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称，由于部分研究人员早已预估，除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术，否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此，半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今，初步的开发成果即将公布，由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室，昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元，并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上，其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7～20％。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米，上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片，但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条